生产人员清洁要求是什么生产人员清洁要求是什么？
1）每日上岗前应在更衣室穿戴好清洁、无缺、契合不同生产区域工装要求的工衣、工鞋、工帽。
2）作业前要将手洗洁净，直接触摸药品的作业人员不得佩带首饰，不得涂抹化妆品。
3）脱离作业场地时，有必要脱掉工衣、工鞋、工帽。
4）生产人员应常常洗澡、理发、刮胡须、修剪指甲、换洗衣服，坚持个人清洁。
5）每年进行一次健康查看，并树立个人
食品洁净车间施工队
生产人员清洁要求是什么
生产人员清洁要求是什么？
1）每日上岗前应在更衣室穿戴好清洁、无缺、契合不同生产区域工装要求的工衣、工鞋、工帽。
2）作业前要将手洗洁净，直接触摸药品的作业人员不得佩带首饰，不得涂抹化妆品。
3）脱离作业场地时，有必要脱掉工衣、工鞋、工帽。
4）生产人员应常常洗澡、理发、刮胡须、修剪指甲、换洗衣服，坚持个人清洁。
5）每年进行一次健康查看，并树立个人健康档案，经查看后，凡患有流行症、隐性流行症、、者一概调离岗位，不得从事药品生产。
发展在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的
发展
在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的，我国1965年才开始生产的HEPA过滤器，比国外了十五年。1975年开始生产的光散射尘埃粒子计数器比国外晚了二十年。0.1微米洁净技术和设备在国际上已成为成熟技术，我国则刚刚起步。
在洁净室建设规模和技术水平上，我国与差距更大。日本清水建设公司一家，1982年到1987年期间承建的洁净室面积达71.8万平方米，而我国目年承建的洁净室总面积还不到10万平方米，但八五期间有较大发展，1993年承建洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大，1998年统计已达188.5万平方米。
洁净技术方向发展空气分子污染
洁净技术方向发展
空气分子污染（Airborne Molecular Contaminants，AMC）作为IC工厂所关心的问题于20年前由日本人提出，近年来，世界IC技术发展迅速，IC芯片日益微型化。AMC对当前的IC生产其潜在的污染比粒子污染要广泛多，粒子污染控制只需要确定粒径及个数，但对AMC控制而言，除了受芯片线宽的缩小而变化外，并受工艺、工艺设备、工艺材料及传送系统等的影响。更有甚者用于某一工序的各种工艺材料（化学品、特种气体等）在很多情况下其微量的分子残余对下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生产过程中的某些加工工序及工序间的材料传送和存放环境中，AMC已成为严重影响成品率的重要问题，AMC分子控制技术成为洁净工程设计与施工建设的主流趋势。目前，国内的洁净工程企业中已经开始从事此方向的研究，在该领域比较的企业有亚翔集成，在分子净化技术方面该公司已经走在了同行业的前列，而电子工程设计院则在防微震方面。
气流模式及压力分布菌落
气流模式及压力分布
菌落作为微粒会按空气的方向和速度运动，因此控制气流的形式具有重要的意义，气流的控制应该是两个层次的：一个是总体的，一个是局部的。总体控制即控制手术部内各房间，即手术室和其相邻的房间之间的运动。气流要依手术部的布置而设计，有一个重要的原则是：气流要从洁净的房间流向次洁净的房间，因此气流必须由手术室流向洁净走道,确保污染物不会,按实际经验,I级洁净手术室应保持25Pa正压,II级洁净手术室应保持20Pa正压,III级洁净手术室应保持15Pa正压,IV级洁净手术室应保持10Pa正压,洁净走道应保持5~10Pa正压,当手术室需要负压时应单独设计,建议安装压差传感器以控制手术室内的压差,手术室的地板,墙身,天花板门都必须密封,特殊手术室也可按正负压转换设计,当发生事故时,可马上将手术室由正压转为负压,避免污染室外环境。
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