真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某
光学镀膜机厂家
真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。
化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
真空镀膜机工作的特点
真空镀膜机工作的特点是溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好、装置性能稳定中频设备必须加冷却水进行冷却，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样会使电导发热，所以采用中孔管做导体中间加水冷却。
冷水机能控制真空镀膜机的温度，以保证镀件的高质量。如果不配置冷水机就不能使真空镀膜机达到、率控制温度的目的，因为自然水和水塔散热都不可避免地受到自然气温的影响，而且此方式控制是极不稳定的。
真空镀膜机使用前的准备工作
在使用真空镀膜机前，必须详阅使用说明书，熟悉整机结构原理，各部件的作用和操作方法。
1、确认水、电、气均已安装无误后，先试运行滑阀泵、罗茨泵，其转动方向要与各泵规定的方向一致。
2、检查设备的各个动力传动装置运转是否正常。
3、检查卷绕车的开动情况，检查卷绕车与真空罐对接的密封是否可靠，检查装于导轨上的各个行程开关是否工作正常，检查履带的安放及定位情况是否完好。
4、按照从低真空到高真空的次序，逐级调试真空系统，检查各个环节的密封是否可靠，各个阀门开闭是否灵活，霍尔开关位置是否正确，各真空泵均应运转平稳、无异常振动、无异常噪音。
真空镀膜设备作业时的应急预案很实用
真空镀膜设备作业时的应急预案很实用
1、设备工作一段时间需清理打扫
设备工作一段时间，一般50到70炉次，需清理打扫，把粉尘清出炉外，然后空炉工作一次。工作的方式是先抽空为真空度高于10-2Pa时加热，加热温度一般高于正常使用温度的20℃。在高炉温时保温一个小时以上，然后自然冷却。这样使设备内部空间保持清洁。
2、更换充气气瓶
设备所用充气气瓶需更换时，拆掉稳压阀，换上一瓶新气，一定要注意安装时不许漏气。在换上新气瓶后，在工件没加热前，应在抽空过程中对炉内充气，以便在换气瓶过程中造成的管路内存有的大气抽出，使充气管路保持清洁。
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