蒸镀方法。在基材表面蒸镀铝的方法有直接蒸镀法和转移法两种。
1）直接蒸镀法。是被镇基材直接通过真空镀膜机，将金属铝蒸镀在基材表面而形成镀铝薄膜。直接蒸镀法对基材的要求较高，尤其是要形成表面光亮的金属膜，必须要求基材具有较好的表面平滑度。如果纸张的表面较粗糙，要采用直接蒸镀法，在镀铝前需行表面涂布。另外，在蒸镀过程中基材的挥发物要少。因此直接蒸镀法对
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蒸镀方法。在基材表面蒸镀铝的方法有直接蒸镀法和转移法两种。
1）直接蒸镀法。是被镇基材直接通过真空镀膜机，将金属铝蒸镀在基材表面而形成镀铝薄膜。直接蒸镀法对基材的要求较高，尤其是要形成表面光亮的金属膜，必须要求基材具有较好的表面平滑度。如果纸张的表面较粗糙，要采用直接蒸镀法，在镀铝前需行表面涂布。另外，在蒸镀过程中基材的挥发物要少。因此直接蒸镀法对基材有较大的局限性，它主要适合于蒸镀塑料薄膜，也可用于纸张的蒸镀，但纸张的质量要求高，并对纸的定量有一定的限度。
2)转移法。是借助载体膜(真空镀铝膜)将金属铝层转移到基材的表面而形成镀铝薄膜。转移法是在直接蒸镀法的基础上发展起来的新工艺，它克服了直接蒸镀法对基材要求的局限性，尤其适合于在各种纸及纸板上进行镀铝，也可用于塑料薄膜的镀铝。目前国外已将转移法应用到布、纤维、皮革等基材的镀铝产品上。我国主要采用转移法生产镀铝纸。
真空镀膜机设备真空镀膜机系统组成
真空镀膜机等离子体束溅射镀膜机主要由射频等离子体源、真空获得系统、电磁线圈（发射线圈及汇聚线圈）、偏压电源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系统等部分构成。其显著特点是它的等离子体发生控制系统，其示意图如图1所示。等离子体发生控制系统是镀膜机中的关键部分，其中射频等离子体源位于真空室的侧面，并在等离子体源的出口处及溅射靶材的下方分别配置有一个电磁线圈。当两个线圈同向通过电流时，线圈合成的磁场将引导等离子体源中产生的电子沿磁场方向运动，从而使等离子体束被约束在磁场方向上。同时靶材加有负偏压，使溅射离子在电场的作用下加速撞击靶表面，产生溅射作用。
真空镀膜机等离子体发生控制系统
真空镀膜机这种镀膜机具有非常灵活的控制方式，例如溅射速率可以通过调节靶材偏压和改变等离子体源的射频功率这两种途径进行调节。等离子体发生装置与真空室的分离设计是实现溅射工艺参数宽范围可控的关键，而这种参数阔范围的可控性使得特定的应用能够获得优化的工艺参数。此外，还可以通过控制系统的真空度来进行溅射速率的调节。
真空镀膜机中所示曲线为靶电流与偏压曲线、恒定电流密度时溅射速率与靶偏压的关系，其中恒定电流时射频功率为500W。
真空镀是否会改变表面抛光？
其实每个不同的抛光效果，产品表面的凹凸就不一致，那光打在产品表面时候反射出来就是不一样的，所以不同产品的表面前处理不一样，折射的光度就会不一样，色泽也是有差别的。真空镀膜是将原子或分子由源转移到基材表面上的过程，是物理过程的物质转移，PVD真空镀膜一般不会改变或影响产品的表面光度，所以颜色的艳丽或表面效果与产品本身有很大原因
常见问题，为什么我的产品经过真空镀膜机镀膜后颜色不如其他产品亮？首先对于不同光洁度的镜光产品，即便在同样的工艺中生产，镀膜后的效果还是会有所差异，所以产品的光亮还是与产品本身有较大关联。而且同一炉出来的产品颜色不一样？PVD真空镀膜是离子之间的物理结合，不是在外界当添加的固定颜色，所以即便是同样的参数去制作的产品，颜色也会因为产品的材质以及表面处理不一样而不一致。
加工真空镀膜工艺
加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。对经过清洗处理的清洁表面，不能在大气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至较小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。清除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外，还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。
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