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抛光(化学机械抛光，Chemical Mechanical Polishing) 生产过程中的工艺是抛光晶圆片，此工艺在超净间中进行。超净间从一到一万分级，这些级数对应于每立方米空间中的颗粒数。
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抛光后，晶圆片要通过一系列清洗槽的清洗，这一过程是为去除表面颗粒、金属划痕和残留物。之后，要经常进行背面擦洗以去除的颗粒。二氧化硅晶体又称石英，确实会在一部分机械中用到，但是制作芯片的原料是单晶硅。这些晶圆片经过清洗后，将他们按照终用户的要求分类，并在高强度灯光或激光扫描系统下检查，以便发现不必要的颗粒或其他缺陷。
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旦通过一系列的严格检测，终的晶圆片即被包装在片盒中并用胶带密封。然后把它们放在真空封装的塑料箱子里，外部再用防护紧密的箱子封装，以确保离开超净间时没有任何颗粒和湿气进入片盒。
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