真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能
真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝性能分析研究，为了获得性能良好的半导体电极Al膜，我们通过优化工艺参数，制备了一系列性能优越的Al薄膜。通过理论计算和性能测试，分析比较了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种方法制备Al膜的特点。
严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从
磁控溅射镀膜机厂家
真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能
真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝性能分析研究，为了获得性能良好的半导体电极Al膜，我们通过优化工艺参数，制备了一系列性能优越的Al薄膜。通过理论计算和性能测试，分析比较了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种方法制备Al膜的特点。
严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。
采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。
附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。
真空镀膜机冷却系统的原理及监控方法
真空镀膜设备的金属罩体通过安装孔然后以焊接的方式固定在真空镀膜机的外壁上，待冷却的外壁通过加强圆槽形成渠道，这样确保了冷却的流通，也避免的死角现象的产生，有效的对镀膜机进行了的降温，降低了油泵的温度，加强了冷却的强度，结构简单，安全可靠等有点，在真空镀膜机冷却外壳上包括金属罩体的原因是数个排列有序，并且内凹的加强圆槽，所述加强圆槽呈半球形或圆锥台形；在所述加强圆槽底部设有用连接现有真空镀膜机的待冷却外壁的安装孔，所述金属罩体通过安装孔并以焊接方式固定在现有真空镀膜机的待冷却外壁上，在所述金属罩体与待冷却外壁之间通过加强圆槽构成循环通道，根据权利要求1所述的真空镀膜机循环冷却系统用冷却外壳，其特征在于，在所述金属罩体上相邻两所述加强圆槽的纵横间距为100-300mm,上述加强圆槽槽深为12_15mm,所述金属罩体的厚度为2-5_，根据权利要求1所述的真空镀膜机循环冷却系统用冷却外壳，其特征在于，所述加强圆槽的大直径为24-136mm。
真空镀膜机的安装
真空镀膜机应安置于清洁而干燥的室内。镀膜工作室的环境应是空气清洁，设有空调设备，室温一般在23~25℃之间，相对湿度为60%左右。
工作室温度太高会影响抽速，温度太低则机械泵难以起动。室内太潮湿会影响膜层质量。
由于大多数膜料都有不同程度的毒性，当钟罩打开时会飞散在室内空气中，因此在钟罩附近应安装抽风设备，以便在钟罩打开时抽掉真空室内的有毒气体与飞扬的碎屑。
镀膜机应装在靠墙处，但四周应留有检修与操作空间，并有冷却水源，水压约为3个大气压。镀膜机的防振要求不高，无需特殊机座，但必须安置平稳，不应有振动。
（作者： 来源：）
