原子层沉积（ALD）是一种沉积原子级薄膜的技术，它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术相比，沉积速率相对较慢，但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外，在原子层沉积过程中，样品表面上没有物理和电学损伤，而在PECVD过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外，通过使用不同的反
派瑞林涂层防水
原子层沉积（ALD）是一种沉积原子级薄膜的技术，它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术相比，沉积速率相对较慢，但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外，在原子层沉积过程中，样品表面上没有物理和电学损伤，而在PECVD过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外，通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金属等）。
超声波雾化喷涂设备的工作原理是通过将高频超声波转变成机械振动，超声波雾化喷嘴雾化液滴极其细小，为微米大小的液滴。这些雾化液滴具有非常精密分布的特点，并且雾化液滴的粒子大小由超声波工作时的频率所决定的，频率越大其雾化液滴粒子月细小。超声波雾化喷涂设备能够连续地将功能性液体均匀的分散在被处理器件表面，产生功能性薄膜涂层。
超声波雾化喷涂设备因其雾化喷涂的涂层均匀、致密、超薄，能够实现用少的材料喷涂更多的传感器，为公司节约大量成本等优势已逐渐投入市场并大范围使用。
派瑞林(Parylene)中文名为聚对二，是一种高分子热可塑性聚合体，由单体对二在真空状态下均匀分布在被涂装物的缝隙和表层然后聚合。运用气相沉积的处理技术，可以于物体表面均匀涂覆形成膜厚，是一种保护性高分子材料。派瑞林(Parylene)它可在真空下气相沉积，派瑞林(Parylene)活性分子的良好穿透力能在元件内部、底部，周围形成无，厚度均匀的透明绝缘涂层，给元件提供一个完整的防护涂层，抵御酸碱、盐雾、霉菌及各种腐蚀性气件的侵害，这种室温沉积制备的0.1～100μm薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，是当代有效的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。
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