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微弧氧化电源报价欢迎来电「日照微弧技术」

微弧氧化处理是一种在有色金属表面原位生长氧化物陶瓷的新技术,具有与基体金属结合力强、硬度高、耐腐蚀、损、耐热冲击等优点,是非常有前途的轻合金表面处理方法。在镁合金工程应用中,主要从提高镁合金纯度或研究新合金、表面处理或涂层、采用凝固工艺和表面改性等4个方面进行腐蚀防护。5、电源模式一般采用交流或脉冲方式,这种方式具有较高能量,且生成的陶瓷膜性能比直流电源的高。其中,微弧
微弧氧化电源报价






微弧氧化处理是一种在有色金属表面原位生长氧化物陶瓷的新技术,具有与基体金属结合力强、硬度高、耐腐蚀、损、耐热冲击等优点,是非常有前途的轻合金表面处理方法。在镁合金工程应用中,主要从提高镁合金纯度或研究新合金、表面处理或涂层、采用凝固工艺和表面改性等4个方面进行腐蚀防护。5、电源模式一般采用交流或脉冲方式,这种方式具有较高能量,且生成的陶瓷膜性能比直流电源的高。其中,微弧氧化表面处理形成保护膜是提高Mg及镁合金材料抗蚀性非常重要有效的方法。




微弧氧化应用

微弧氧化技术工艺处理能力强,主要可用于对、耐蚀、耐热冲击、高绝缘等性能有特殊要求的铝基零部件的表面强化处理;还可采用不同的电解液对同一工件进行多次微弧氧化处理,以获取具有多层不同性质的陶瓷氧化膜层。还可用于常规阳极氧化不能处理的特殊铝基合金材料的表面强化处理。另微弧复合处理周期短,生产及日常维护成本低廉,可实现全自动控制生产,生产并且极大节约了人力资源成本,使其规模化装备制造业已无后顾之忧。

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微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系,而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期,作用在膜层上的能量较低,产生的熔融物颗粒较少,膜层的表面粗糙度较低;随着时间的延长,膜层表面的能量密度逐渐增大,熔融的氧化产物增多,并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下,氧化物冷却凝固,并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中,产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多,从而增大了膜层表面的粗糙度。微弧氧化处理后的铝基表面陶瓷膜层具有硬度高,耐蚀性强(CASS盐雾试验>。另外,在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程,因此,若时间足够长,膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。




微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度?

一般来讲,微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层,膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。如,一般情况下,铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和性,因为从生成物来看,氧化铝硬度及性均高于氧化镁,铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。1.微弧氧化技术大幅度地提高了材料的表面硬度,显微硬度在HV800~2000,高可达HV3000,可与硬质合金相媲美,大大超过热处理后的高碳钢、高合金钢和高速工具钢的硬度。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取,如单纯提高膜层的硬度,可能需提高膜层厚度,降低膜基结合力,对膜层整体性能不利。

因此,一般很少单独强调某种性能。只是如果有特殊要求,可以提出,整体加以调制,在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如,某镁合金需要耐蚀,可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制,满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。






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