腐蚀机为人工气候环境“三防”（湿热、盐雾、霉菌）试验设备之一，是研究机械、工业、轻工电子、仪表等行业各种环境适应性和可靠性的一种重要试验设备。 传统的化学蚀刻机分为泼溅式腐蚀机、水平蚀刻机，然而在实际生产过程中，由于各种原因，蚀刻精度往往很难控制，容易产生测腐蚀现象；华谊智能科技通过市场的反馈和多年的蚀刻设备制造经验，研发出一款反喷淋式转盘蚀刻机（转盘大小可定做），将工件夹在
数码商标腐蚀机机械设备
腐蚀机为人工气候环境“三防”（湿热、盐雾、霉菌）试验设备之一，是研究机械、工业、轻工电子、仪表等行业各种环境适应性和可靠性的一种重要试验设备。 传统的化学蚀刻机分为泼溅式腐蚀机、水平蚀刻机，然而在实际生产过程中，由于各种原因，蚀刻精度往往很难控制，容易产生测腐蚀现象；华谊智能科技通过市场的反馈和多年的蚀刻设备制造经验，研发出一款反喷淋式转盘蚀刻机（转盘大小可定做），将工件夹在转盘上，独立摇摆喷架由下往上高压喷淋，同时转盘也自转，这样就避免了蚀刻液在工件表面的残留，提高了蚀刻精度。 同时转盘蚀刻机标配：4KW立式耐酸泵、全压过滤器、钛合金加热管、钛合金水冷管、温度显示自动加热系统等等。
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法：反应性等离子体（RIE），顺流等离子体（downstream），直接等离子体（direction plasma）。
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时""到硅片上的过程。
光栅刻画:光学中光栅通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。
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