无尘车间一般至少要采用初、中、高三级过滤器过滤，而这三级过滤器的阻力加起来就有700～800帕左右，无尘车间一般也要采用集中送、回风的方式，以保证维持无尘车间的正负压调节的要求，所以无尘车间的管道阻力一般比普通空调的要多一倍以上。需要克服这些阻力，就要求空气处理机组的送风机有足够的压头，GMP无尘车间，所以无尘车间的空气处理机组的送风机组一般采用后弯机翼型的风机，精
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无尘车间一般至少要采用初、中、高三级过滤器过滤，而这三级过滤器的阻力加起来就有700～800帕左右，无尘车间一般也要采用集中送、回风的方式，以保证维持无尘车间的正负压调节的要求，所以无尘车间的管道阻力一般比普通空调的要多一倍以上。需要克服这些阻力，就要求空气处理机组的送风机有足够的压头，GMP无尘车间，所以无尘车间的空气处理机组的送风机组一般采用后弯机翼型的风机，精密电子无尘车间，或者是无窝壳的风机，才能达到足够高送回风压头。
洁净室中的温湿度控制：
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。
万级电子无尘车间厂房特点: 洁净度等级要求高,风量、温度、湿度、压差、设备排风按需受控,照度、洁净室截面风速按设计或规范受控，另外该类洁净室对静电要求极其严格。其中对湿度的要求尤甚。因为过于干燥的厂房内极易产生静电，造成CMOS集成损坏。一般来说，电子厂房的温度应控制在22℃左右，相对湿度控制在50-60%之间（特殊无尘车间有相关温湿度规定）。 这时可有效地消除静电，并使人也感觉舒适。
化妆品无尘车间微生物的污染与控制首先要从生产工艺厂房布局入手，净化工程的空气质量，人员管理以及化妆品所需设备和仪器非常重要。化妆品的生产质量与所处环境密切相关。
无尘净化车间工程高标准的等级要求，只要大家能够细心的做好每一步，也就没什么问题了。无尘净化车间其应掌握的内容，粒子或菌类危害程度。无尘室内的产品所要求的洁净度。无尘室尘源及其控制。工艺操作对洁净度的影响。洁净度、测定仪器、测定方法和评价方法的知识。净化设备和系统的使用规程，故障排除方法。本无尘室的构造和性能。安全措施，卫生措施。对无尘室工作人员进行训练的内容一般包括如下几个方面。按规定的方法练习脱去个人服装并保管起来。按规定的方法练习穿洁净工作服，按规定的方法练习洗手、烘干，使用无尘室纸巾。做不拖足行走的练习，做带进无尘室器材的清洁净化练习。练习使用无尘室的消防器材。
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