真空镀膜设备主要由真空腔、抽气系统、蒸发系统、成膜控制系统等组件构成。
真空镀膜设备选购要点分析如下：
根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、多弧离子镀等。
真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。
有机高分子镀膜设备公司
真空镀膜设备主要由真空腔、抽气系统、蒸发系统、成膜控制系统等组件构成。
真空镀膜设备选购要点分析如下：
根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、多弧离子镀等。
真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。
真空镀膜设备磁控溅射镀膜机常见问题：真空镀膜设备磁控溅射镀膜机其工作原理是在真空状态下，使用弧光放电和辉光放电的工作原理。在金属和非金属的工件表面上镀制金色的氮化钛，黑色碳化钛，七彩的氮氧化钛等。广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。亦可镀防腐蚀膜（如AL,Cr不锈钢及TiN等）和膜，膜层与基底结合牢固，利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。适合于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业，具有很好的发展前景。
真空镀膜设备膜层色泽不均：(1)底漆喷涂得不均匀。应改进底漆的施涂方法。(2)膜层太薄。应适当提高溅射速度或延长溅射时间。(3)夹具设计不合理。应改进夹具设计。2、依托信息化发展趋势，坚持“以信息化带动工业化，以工业化促进信息化”，走出一条科技含量高、经济效益好、资源消耗低、环境污染少、人力资源优势得到充分发挥的新型工业化路子。(4)镀件的几何形状太复杂。应适当提高镀件的旋转速度。真空镀膜设备膜层发皱、龟裂：(1)底漆喷涂得太厚。应控制在7—lOtan厚度范围内。(2)涂料的粘度太高。应适当降低。(3)蒸发速度太快。应适当减慢。(4)膜层太厚。应适当缩短溅射时间。(5)镀件温度太高。应适当缩短对镀件的加温时间。
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