PLD450型脉冲激光镀膜介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。
主要用途：
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
系统组成:
主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等
脉冲激光沉积装置厂家
PLD450型脉冲激光镀膜介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。
主要用途：
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
系统组成:
主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
脉冲激光沉积系统特点及优势
可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，；
如需了解更多脉冲激光沉积的相关内容，欢迎拨打图片上的热线电话！
脉冲激光沉积的应用领域
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。
应用领域：
单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）
压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）
铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）
热电薄膜（SrTiO3）
金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）
半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）
高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）
超导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）
光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）
超疏水薄膜（PTFE）
红外探测薄膜（V2O5，PZT）
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