真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法。在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等）。
真空镀膜是在真空
派瑞林镀膜工艺
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法。在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等）。
真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。
在固体表面涂上特征的表面涂层，使固体表面具有性、耐高温性、耐腐蚀性、耐氧化性、电磁波辐射性、导电性、吸磁性、电缆护套和设计装饰性等优于固体原料本身的优点，提高产量、提高产品使用期限。
真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。不但可以制备可控制的超薄薄膜、原子级平整度的表面、上百层的叠加膜，而且还可以控制薄膜的成分和配比。真空镀膜技术为制造各种各样的清洁表面提供了手段。这些薄膜的制备均为科学的研究和发展提供充分的条件。派瑞林镀膜工艺
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