真空镀膜机薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性：也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看（也即是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜机的均匀性现已相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也即是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。
2.化学组分上的均匀性：即是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的
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真空镀膜机薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性：也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看（也即是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜机的均匀性现已相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也即是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。
2.化学组分上的均匀性：即是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的发生不均匀特性，SiTiO3薄膜，假如镀膜进程不科学，那么实践外表的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的份额，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技能含量地点。
3.晶格有序度的均匀性：这决议了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技能中的热点问题。
磁控溅射镀膜生产线系统设计系统设计的特点
1、生产线采用PLC全过程控制，并配有彩色显示屏，显示镀膜工艺过程参数等；
2、实时动画形式显示监控磁控镀膜生产线的工艺流程。磁控镀膜生产线的设备是密封的，生产时看不见玻璃在真空室里面的运行情况，通过通用组态式监控系统形象的动画功能来实时反应玻璃在密封真空室里的运行情况，让现场操作工对整个生产流程了若指掌。
3、系统功能丰富：包括手/自动模式选择、工艺方案选择、数据检测记录、故障报警记录、自动诊断保护、操作权限限定等等。系统组成结构图上位监控系统采用的是通用组态式监控系统，其与下位控制系统的三菱FX2NPLC通信方式采用RS-232串行通讯方式。LG变频器及真空泵、抽气阀等都是由三菱FX2N-PLC来控制，而PLC通过一个扩展的232BD模块与计算机相连。软件系统完成的主要功能
1、以实时动画形式监控磁控镀膜生产线的工艺流程，监控电机、真空泵、抽气阀等部件的运行状态；
2、记录设备运行过程中产生的实时报警信息；
3、PLC输入、输出点实时监控。总结该系统现场运行情况良好，数据读写速率快，报警功能、设备动作控制等各项功能均达到设计要求，且、准确无误，主画面上的动画过程与现场的生产流程配合较好，使用该系统可以非常方便的监控整条生产线的运行。“操作简单，画面精美，软件与设备的通讯性能优越，大大提升系统形象”通用组态式监控系统软件突出性能给予的评价。
溅镀机设备与工艺（磁控溅镀）
溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射枪（sputtergun）磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。
射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须控制参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力（5×10-1—1.0Pa），若各参数皆稳定，膜厚可以镀膜时间估计出来。
靶材的选择与处理十分重要，纯度要佳，质地均匀，没有气泡、缺陷，表面应平整光洁。对于直接冷却靶，须注意其在溅射后靶材变薄，有可能破损特别是非金属靶。一般靶材薄处不可小于原靶厚之一半或5mm。
磁控溅镀操作方式和一般蒸镀相似，先将真空抽至1×10-2Pa，再通入Ar气（Ar）离子轰击靶材，在5×10-1—1.0Pa的压力下进行溅镀其间须注意电流、电压及压力。开始时溅镀若有打火，可缓慢调升电压，待稳定放电后再关shutter.在这个过程中，离子化的惰性气体（Ar）清洗和暴露该塑胶基材表面上数个毛细微空，并通过该电子与自塑胶基材表面被清洁而产生一自由基，并维持真空状态下施以溅镀形成表面缔结构，使表面缔结构与自由基产生填补和高附着性的化学性和物理性的结合状态，以在表面外稳固地形成薄膜.其中，薄膜是先通过把表面造物大致地填满该塑胶毛细微孔后并作链接而形成．
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