苏州工业园区诺泰盈电子有限公司是一家从事EMI材料/绝缘材料/缓冲泡棉材料/散热型材料及各种双面胶材料深加工的企业。
显影液组成成分的作用与显影液的配方
甘氨酸是作用极慢的，可洗出软影调低反差的底片，能够很好地表现阴影部位上的细部，而灰雾度很小。甘氨酸可用作制备微粒显影用平衡显影液。甘氨酸不易溶于水，而易溶于碱性溶液中。长期以来，一直使用休贝尔浓缩液， 这是甘氨
显影液浓度
苏州工业园区诺泰盈电子有限公司是一家从事EMI材料/绝缘材料/缓冲泡棉材料/散热型材料及各种双面胶材料深加工的企业。
显影液组成成分的作用与显影液的配方
甘氨酸是作用极慢的，可洗出软影调低反差的底片，能够很好地表现阴影部位上的细部，而灰雾度很小。甘氨酸可用作制备微粒显影用平衡显影液。甘氨酸不易溶于水，而易溶于碱性溶液中。长期以来，一直使用休贝尔浓缩液， 这是甘氨酸显影液的浓缩溶液，很易于贮存。甘氨酸常被 用来与米吐尔、二酚及菲尼酮配合使用。此种显影液用于冲洗成卷的胶片，因为这时要同时冲洗曝光不同及反差各异的大量底片。
普通显影液有时也称为通用显影液，其特点是具有中等活性，即可用于冲洗底片感光材料，又可用于冲洗正片感光材料。普通显影液的使用温度为18-20°C，用新制备的溶液冲洗底片材料为6一9分钟，而冲洗正片材料为4分钟。在此种显影液的成分中，包含显影物质(通常是用两种显影物质相配合)5-10克/升，亚硫酸钠2040克/升，碳酸碱(苏打或碳酸钾)15-30克/升及化钾1—5克/升。多余量的碱是用来保持显影液的需用活性的(在长时间过程中，直至显影物质完全失去活性)。
为了提高均衡作用，可稍加搅拌显影液。当进行均衡显影时，底片过度曝光部位的感光度被降低，而曝光不足部位的感光度被提高。使用软调显影液不会总能保证底片的微小粒度，只有加进大量亚硫酸钠才能使卤化银的大颗粒晶体溶化，因而降低粒度。由于含二酚的非尼酮显影液的出现，才有可能制成低量碱及低量防灰雾物质的软调显影液。一般用于底片的软调显影液可保证反差系数达到r=0.6-0.8，微粒显影液用于冲洗高放大倍数的接触印相的小尺寸底片。当冲洗已坚膜的乳剂层时，尤其需要使用扩展附加物质，因为使用此种物质会使显影液作用变缓并可均匀渗透到乳剂层中。
（作者： 来源：）
