双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些？
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
产品特点
1：此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜
2：该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。
3：该镀膜仪
单靶磁控溅射仪公司
双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些？
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
产品特点
1：此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜
2：该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。
3：该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。
磁控溅射“磁控反应”介绍
磁控反应溅射绝缘体看似容易，而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面以及靶源表面，从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。辉光区发射出电子、离子、中性原子、光子等，这些组成等离子体（宇宙99%以上的组成物质为等离子体）辉光和基体之间电压降很小。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ,服务至上为宗旨。公司生产、销售磁控溅射产品,公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！
磁控溅射镀膜机的特点
擅长生长高质量的薄膜或是超薄 膜, 金属与绝缘材料.保证 的抽气速度, 与友厂对比,氢和氧的污染系数好数十倍. 可制作与外延类似的薄膜..烘烤时可把磁铁拆下以保护磁铁不退磁. 客户可选择 RHEED, 在磁铁拆下时可检测样品薄膜的质量. Sputter 24 均匀性及重现性非常出色, 可以使用DC, RF, 脉冲直流电源. 标准材料与磁性材料均可使用. 可安排成共溅射与垂直溅射, 根据需求设计安装.
与激光加热器联用可变为反应型磁控溅射, 可成长氧化物薄膜与氮化物薄膜等. 正下方可安装一只离子源, 可以提供样品清洗与辅助镀膜.
期望大家在选购磁控溅射产品时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多磁控溅射产品的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线电话！！！
磁控溅射镀膜机导致不均匀因素哪些？
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原理上讲，两点：气场和磁场
磁控溅射在0.4Pa的气压情况下离子撞击靶材，溅射出粒子沉积到基材上，整体靶材的电压几乎一致，不影响溅射速率。
0.4Pa的气场情况是溅射速率较高的情况，气场变化，压强变大和变小都会影响溅射速率。
磁场大，束缚的自由电子增多，溅射速率增大，磁场小，束缚的自由电子就少，溅射速率降低。
稳定住气场和磁场，溅射速率也将随之稳定。
在实际情况下，气场稳定，需要设计布气系统，将布气系统分级布置，保障镀膜机腔体内不同位置的进气量相同，同时，布气系统、靶材、基材等要远离镀膜机的抽气口。公司生产、销售磁控溅射产品,公司拥有强大的销售团队和经营理念。需要稳定磁场，用高斯计测量靶材表面磁场强度，由于磁场线本身是闭合曲线，靶材磁场回路两端磁场强度自然比中间位置强，可以选择用弱磁铁，同时，基材要避开无法调整的磁场变化较大的部分。
另外，在设备结构设计方面，磁控溅射过程中，需要基材与靶材保持同轴，如果旋转、直线运行的话，也要同轴旋转、直线运行。
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