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寮步充电宝LOGO曝光显影抛光免费报价「在线咨询」

干膜尽可能平整且厚度均匀。要求干膜应具有很好的柔韧性、良好的塑性、流动性与粘结性以确保达到无间隙贴膜。 显影要充分。显影是与下道工序直接相连的重要工序,其质量的好与坏是整个图形转移成功与否的重要标志。 首先是预处理,蚀刻材料要处理干净,丝印油墨时要保证油墨厚度适中,一般在0.12-0.14mm,当然看每个工厂的实际情况与工艺。接下来是烘烤油墨,要控制温度和烘烤速度,
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干膜尽可能平整且厚度均匀。要求干膜应具有很好的柔韧性、良好的塑性、流动性与粘结性以确保达到无间隙贴膜。

显影要充分。显影是与下道工序直接相连的重要工序,其质量的好与坏是整个图形转移成功与否的重要标志。


首先是预处理,蚀刻材料要处理干净,丝印油墨时要保证油墨厚度适中,一般在0.12-0.14mm,当然看每个工厂的实际情况与工艺。接下来是烘烤油墨,要控制温度和烘烤速度,一般来说烘烤温度控制在90℃±5℃。




对常用金属材料的蚀刻以现有技术水平完全可以做较高的蚀刻速度可达0.1m/min以上这么快的速度需要腐蚀能力更强的配方及更高的温度,为了维持溶液成分的相对稳定可以采用大体积或自动分析调整技术,但在这里就有一个可用于批量生产的防蚀层怎么制作的问题本书中所讲的一定是批量生产而不是实验室的工作。

所以快的蚀刻速度只是一个相对概念,是在容易控制的同时,防蚀层制作成本可接受、蚀刻深度均匀的前提下快的蚀刻速度才是有意义的。



蚀刻深度的均匀性主要受4个方面的影响:材料、蚀刻溶液、蚀刻过程的物理参数和蚀刻时间。综上所述,可以知道影响确定蚀刻速度的因素主要有蚀刻深度要求及公差要求。对于蚀刻深度大的工件可以设计成高蚀刻速度的工艺方案当对公差要求高时可采用分次蚀刻的方法进行,即先采用高速度的蚀刻方法,当接近设计要求深度时采用低蚀刻速度的方法来保证公差。对于蚀刻深度浅、公差要求严的工件则应采用蚀刻速度较慢的工艺方法。




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