该装置由汽化炉、分解炉、重合室这3个部分组成，在重合室中放置对象物品，在汽化炉中放置Parylene (粉体)。
在装置内进行减压操作后，升高汽化炉的温度（120~180℃），使Parylene升华。 通过真空泵将该气体引导至蒸汽粘合室，通过高温（650~700℃）分解炉后，生成热分解单体。该单体在室温状态下的重合室内与对象物品相接触，其含有的
五金真空镀膜
该装置由汽化炉、分解炉、重合室这3个部分组成，在重合室中放置对象物品，在汽化炉中放置Parylene (粉体)。
在装置内进行减压操作后，升高汽化炉的温度（120~180℃），使Parylene升华。 通过真空泵将该气体引导至蒸汽粘合室，通过高温（650~700℃）分解炉后，生成热分解单体。该单体在室温状态下的重合室内与对象物品相接触，其含有的热量被传导后在对象物品的表面进行聚合，形成高分子量的聚对二树脂膜。
真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子東轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。
溅射镀膜基本原理：充(Ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(Ar)原子电离成氮离子(Ar)，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在10-2pa~10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。
目前可以沉积的材料包括：氧化物，氮化物，氟化物，金属，碳化物，复合结构，硫化物，纳米薄层等。 中空纳米管，隧道势垒层，光电电池性能的提高，纳米孔道尺寸的控制，高高宽比纳米图形，微机电系统（MEMS）的反静态阻力涂层和疏水涂层的种子层，纳米晶体，ZnSe涂层，纳米结构，中空纳米碗，存储硅点涂层，纳米颗粒的涂层，纳米孔内部的涂层，纳米线的涂层。
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