首先曝光显影抛光两条美工线中间区域，再抛光美工线两边。注意美工线的地方离风轮两边的距离为.cm)抛光周的时候倾斜°-°进行抛光作业。除杂质步骤：将产品放入池中除去表面的蜡，再利用静电除去产品表面上的尘粒。中抛步骤：装上抛光风轮利用废砂片把风轮表面修复平整，把蓝蜡打到修复平整的风轮上，把粗抛好的抛光产品反面向下放在抛光治具上进行抛光作业。所以经过冲刷后，LOGO的图案就会显现出来，不要的部分被去除。
平面曝光显影设计
首先曝光显影抛光两条美工线中间区域，再抛光美工线两边。注意美工线的地方离风轮两边的距离为.cm)抛光周的时候倾斜°-°进行抛光作业。除杂质步骤：将产品放入池中除去表面的蜡，再利用静电除去产品表面上的尘粒。中抛步骤：装上抛光风轮利用废砂片把风轮表面修复平整，把蓝蜡打到修复平整的风轮上，把粗抛好的抛光产品反面向下放在抛光治具上进行抛光作业。所以经过冲刷后，LOGO的图案就会显现出来，不要的部分被去除。曝光显影工艺流程中抛光工序风轮加青蜡更改为风轮加青腊，可解决抛光后出现的不良现象。平面曝光显影设计
曝光显影工艺间接制法：准备网框和感光膜：把绷好的网框（尼龙丝用220－260目的）用10%磷酸钠水溶液清洗，除去油污。油墨中包括主要成分和辅助成分，它们均匀地混合并经反复轧制而成一种黏性胶状流体。由连结料颜料、填料、助剂和溶剂等组成。加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺，是用于印刷的重要材料，
东莞市清溪利成曝光显影，主加工各种亮面手机壳LOGO,充电宝,耳机外壳,保温杯,各种亮面标牌，各种凹凸面.弧度面.拉丝面上LOGO，本公司具备有抛光.曝光显影.氧化多年成熟的丰富经验的工艺，出货快捷，欢迎来料打样.洽谈。平面曝光显影设计
曝光显影的意思是：一种将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，通过曝光显影后，在摄影过程中进入镜头照射在感光元件上的光量，由光圈、快门、感光度的组合来控制。在烘干的绝缘介质层表面上的光量应在200至250之间，其曝光时间可由光梯尺表等试验或供应商提供的条件进行和调整，一般应采用较大曝光量和较短时间曝光。平面曝光显影设计
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