因此光照射半导体表面产生的空穴首先被表面羟基捕获,产生强氧化性的羟基自由基:
TiO2—hv—e-+TiO2(h+)
TiO2(h+)+H2O——TiO2+H++·OH
TiO2(h+)+OH-——TiO2+·OH
当有氧分子存在时,吸附在催化剂表面的氧捕获光生电子,也可以产生羟基自由基:
O2+nTiO2(e-)——nTiO2+·O2-
O
小型光氧催化废气治理设备

因此光照射半导体表面产生的空穴首先被表面羟基捕获,产生强氧化性的羟基自由基:
TiO2—hv—e-+TiO2(h+)
TiO2(h+)+H2O——TiO2+H++·OH
TiO2(h+)+OH-——TiO2+·OH
当有氧分子存在时,吸附在催化剂表面的氧捕获光生电子,也可以产生羟基自由基:
O2+nTiO2(e-)——nTiO2+·O2-
O2+TiO2(e-)+2H2O——TiO2+H2O2+2OH-
H2O2+TiO2(e-)一TiO2+OH-+·OH
光生电子具有很强的还原能力,可以还原金属离子:
Mn++nTiO2(e-)——M0+nTiO2[1]

光氧催化废气处理
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废气处理方法三,焊接烟尘净化处理:焊烟废气被风机负压吸入净化机内部,大颗粒飘尘被均流板和初滤网过滤而沉积下来;进入净化
装置的微小级烟雾和废气通过废气装置内部被过滤和分解后排出达标气体。焊接废气首先通过吸收液分解装置被分解,而后气体通过
过滤器后,进入活性炭吸附层,残余带有气味的气体。被活性炭净化单元吸附掉,气体通过净化膜后排出达标气体。
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然后迅速迁移到其表面并被吸附的氧和水分,产生活性自由氢氧基(-OH)和活性氧(.O),当污染物以及吸附其表面时,就会发生链式降解反应。是光催化机和高’能离子除臭机的一个组合。合理的光催化高能离子除臭机除臭效果可以和生物除臭相媲美。同时占用空间小,维护简单的的优点。光催化是用大功率的UV紫外线灯管配合纳米级金属氧化物(催化剂一般使用纳米级锐钛级二氧化钛涂料,配合二氧化锆。二、除臭:能去除挥发性有机物(VOC)及各种恶臭、异味,除臭效率可达99%以上。氧化铝等组合成为光催化涂料)
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