基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。
一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。因为外表积大，其实在电流密度较低，不易到达金属的分出电位，而仅仅分出很多氢气。别的，若是基体外表镀前处置不良，存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等，也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。(4)每种薄膜都可以通过微调阀地控制镀膜室中残余气体的成
真空镀膜加工
基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。
一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。因为外表积大，其实在电流密度较低，不易到达金属的分出电位，而仅仅分出很多氢气。别的，若是基体外表镀前处置不良，存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等，也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。(4)每种薄膜都可以通过微调阀地控制镀膜室中残余气体的成分和质量分数，从而防止蒸镀材料的氧化，把氧的质量分数降低到的程度，还可以充入惰性气体等，这对于湿式镀膜而言是无法实现的。
镀膜制造需要部分耗材
1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用
2.TIO2颗粒
3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ
4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用
5.铜坩埚,需要根据机台配置选用
6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm
7.电子枪灯丝,需要根据机台配置选用
8.离子源,需要根据机台配置选用耗材
三,设备日常维修保养部件需要根据机台型号选用
四,光学镀膜机台分玻璃机和塑胶机配置不一样,尺寸可以选择,900mm,1100mm,1300mm,1350mm,
与传统的电镀法相比,真空镀膜技术具有很多的优点,如装饰效果好,金属感强,成本低(约为传统电镀的1／3～1／2),污染小,易于操作等。特别在非金属物件的应用上,有着传统电镀无法比拟的优势。鉴于此,真空镀膜已被广泛应用于各种塑料、陶瓷、玻璃、蜡、木材等制品的表面金属化上。手机的发展也从原来的大、厚、重发展到今天小巧靓丽的超薄型，功能更是日渐增多，从过去简单的通话到今天微信、微博的火热，手机更是百花齐放。
真空镀膜技术在塑料制品的应用上为广泛。塑料具有易成型，成本低，质量轻，不腐蚀等特点，塑料制品应用广泛，但因其缺点制约了扩大应用，如不美观、易老化、机械性能差、耐热差、吸水率高等。
（作者： 来源：）
