相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。1000级 一般只对尘埃浓度做要求,用于光学器件,仪器等高精仪器等10000级,用于液压设备的生产,和一些食品饮料的生产。100000级,这个级别比较的低,对净化度要求不是很高,主要在印刷厂,包装厂等。洁净室中的温湿度控
实验室净化车间
相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。1000级 一般只对尘埃浓度做要求,用于光学器件,仪器等高精仪器等10000级,用于液压设备的生产,和一些食品饮料的生产。100000级,这个级别比较的低,对净化度要求不是很高,主要在印刷厂,包装厂等。洁净室中的温湿度控制。洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到 人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

在实际施工中,净化项目通常分为,分工和分时。 这种安排有利于各种和工作类型的管理。 但是,易于进行多尘和无尘的交叉操作,应尽可能避免这种结构布置。 如果不可避免,应该防止灰尘和有效清洁。净化工程技术的兴起不过是上个世纪的事情,但今天净化技术发挥着重要作用则是有目共睹的。随着产品向着好的方向发展,对净化车间的依赖度也越来越高。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。

设计净化系统组织的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近,也不能相差太大。一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。也可分四级,增加一级过滤器。净化工程在设计时,工程的墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板,其特点为美观、刚性强。圆弧墙角、门、窗框等一般采用氧化铝型材。要说净化工程在发展的前景方面,形势还是非常好的,市场需求更是一片大好。因为我们的制药、电子信息等行业都在迅速发展,所以对净化工程行业的发展起到了带动的作用。在这里需要提醒大家的是自从我们的医方面的改条文GMP-2010发布之后,既推动了生物医和食品化工行业的发展,也间接的推动了净化工程行业的发展。而且相关方面支持也让净化工程行业的发展机遇推到了非常好。

现在我们的净化工程已经在朝着节能的方向发展了,除了人士以外,其他人很少知道净化工程的耗能量特别大,时候普通写字楼的20倍,比美国更发达高出了15%。看到这些令人心惊的数字,我们的科学家们从节能的角度出发从根本上出出发,设计出能够节省的相关设备。而随着净化技术的发展,建设净化车间的技术含量也越来越高,非人士不能也。除了在生产领域,净化工程技术还会逐渐应用于家庭、公共场合,为人们提供更洁净的生活空间10级:主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级,并且我国半导体技术也在发展之中,在未来对洁净度的要求更加高。

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