真空镀膜定义真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。顾名思义真空镀膜是在真空状态下，一般指空气压强在10-1～l0-4Pa 范围，形成的薄膜层一般在l0 微米左右厚度。
阳极氧化：应用于金属反光杯。有效反光率不到真空镀铝的一半。优点是不怕紫外线、红外线的损害，甚至可
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真空镀膜定义真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。顾名思义真空镀膜是在真空状态下，一般指空气压强在10-1～l0-4Pa 范围，形成的薄膜层一般在l0 微米左右厚度。
阳极氧化：应用于金属反光杯。有效反光率不到真空镀铝的一半。优点是不怕紫外线、红外线的损害，甚至可以用水清洗。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
真空镀膜技术具有下列优点：
(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。
(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。
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镀膜使产品表面具有金属质感；因为相对于铝、铜、铁、不锈钢等金属部件来讲，经过表面镀膜加工的部件在工业品的外观方面已经或正在越来越广泛的取代金属部件。其表面不具备良好的耐刮伤性能，镀膜完成后，还在镀膜层表面加罩了一层光固化涂料，大大提升了产品表面的硬度。
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