PLD450型脉冲激光镀膜介绍
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产脉冲激光沉积，欢迎新老客户莅临。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa
恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：Ф450球型真空
脉冲激光沉积装置厂家
PLD450型脉冲激光镀膜介绍
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产脉冲激光沉积，欢迎新老客户莅临。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa
恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：Ф450球型真空室 ，
基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。
二维扫描机械平台，执行两自由度扫描,控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫,
质量流量控制器1路
烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃）
脉冲激光沉积原理
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享脉冲激光沉积的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助。想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站！
脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。
常规沉积条件下的组合合成
脉冲激光沉积系统特点及优势：
可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，；
沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有的技术，我们都以质量为本，信誉高，我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对脉冲激光沉积感兴趣，欢迎点击左右两侧的在线客服，或拨打咨询电话。
脉冲激光沉积的原理
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。
以上就是关于脉冲激光沉积的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！
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