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高纯供气系统公司点击了解更多「艾明坷」

实验室气路安装要求 1、所有气体管路都由高质量的、完全退火型、无缝连接的不锈钢管组成。铜管只使用在气体管路的末端,对气体纯度要求不是太严格的地方。 2、气路安装管道不得和电缆、导电线路同架铺设。 3、易1燃气体,如乙1炔需要和其他气体分开单独引入。氢气管道若与其他可燃气体管道平行敷设时,其间距不应小于0.5M;交叉敷设时间距不应小于0.25M。分层敷设时氢气管
高纯供气系统公司






实验室气路安装要求

1、所有气体管路都由高质量的、完全退火型、无缝连接的不锈钢管组成。铜管只使用在气体管路的末端,对气体纯度要求不是太严格的地方。

2、气路安装管道不得和电缆、导电线路同架铺设。

3、易1燃气体,如乙1炔需要和其他气体分开单独引入。氢气管道若与其他可燃气体管道平行敷设时,其间距不应小于0.5M;交叉敷设时间距不应小于0.25M。分层敷设时氢气管道应位于上方。

4、压缩空气在管路上有过滤杂质和水分的净化装置,此净化装置需要并联一路,用单独的阀门隔离,以方便对过滤装置进行维修。

5、高纯气体管路的连接为无缝焊接。连接到阀门或调节装置时才可以使用接头配件。

6、每个实验室都要有单独的控制阀、减压阀和压力表。

7、引到工作台的气体管路要安装单独的控制阀。工作台上要均匀排放各种气体的控制阀门。在氦气管路前面建议安装气体净化装置。

8、每隔1.5米左右,气体管路就需要有支架。另外根据气体管路弯曲的半径,设置合适的支架位置。所有弯曲处都要有支撑。气路安装管路所有的支架都要进行镀锌防腐处理。

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电子特气系统的维护



由于特气系统是一种具有高风险的供应系统,因此在生产线现场的维护需要、有经验的技术员完成。特气系统的维护主要包含气体柜维护和管路维护。

(1)特气柜又分为全自动特气柜与半自动特气柜,每种气柜的维护方法有一定的区别。系统采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式输气方式,在一拖多时能够实现分段控制和在多拖一和多拖多时能够实现切换控制。全自动气柜维护自动化程度较高,并且安全可靠。在维护前关闭钢瓶阀门,设置换瓶吹扫,程序自动进行抽气,置换等动作,根据气体性质的不同,一般至少吹扫60次以上,负压保压30分钟以上,确保气柜各管路与阀门吹扫干净。

(2)管路的维护,由于不同的气体性质不一样,对管路维护的方法也不相同,对腐蚀性气体的管道需要多次用高纯氮气吹扫(N2purge),一般至少反复30次,对于有吸附性的液态源气体,由于管路容易堵塞,需要多次的反复的抽真空,抽完后关闭阀门,1小时后会出现压力表回表的现象,会造成管道泄漏的误导,遇到此情况打开真空器发生器继续抽,直到没有吸附气体释放为止。此种供应方式终会减少运输费用,减少退还给气体公司的空瓶中的余气量,以及良好的气瓶管理。

以上两种系统维护后都必须做正压与负压的保压测试,一般正压保压压力为使用压力的1.2倍,负压保压为-12PSI,保压时间至少120分钟以上,由于压力传感器(PT)受温度的影响,一般有2PSI的正负波动。

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试验室集中供气系统的优点

针对过去使用中存在的问题,现代试验室对载气的使用环境进行了改革,即 “集中供气系统”,即将使用气体(以下简称载气)集中贮存,然后通过压差的原理将气体经过金属或其他材质管路送至用气点。其优点主要有以下几点:

1、首先解决气瓶的放置问题。2、经济性:建一个集中的气瓶间可以节省有限的试验室空间,更换气瓶时不需要切断气体,保证气体的连续供应。气瓶间的位置如果可能尽量位于与试验室相对独立的房间,如果与试验室在同一大楼内,则气瓶间的位置要尽量位于人1流较少并且独立的房间,这种方式可使气瓶与工作人员及仪器完全隔离,即使有害气体有泄漏,也不会发生直接伤害。

2、其次气体混合的问题。将所有载气气瓶根据气体性质分别集中在一个气瓶间中与助燃气体分开存贮。

3、再次是解决气瓶压力的问题。特种气体的应用领域主要在集成电路制造、太阳能电池、化合物半导体、液晶显示器、光纤生产四大领域,其中主要应用于半导体集成电路的生产制造。每种气体可以将多瓶气体并联然后通过一个出口统一减压后运送气体至使用点。因为气瓶间是相对独立的,整个气路系统压力1大的地方也是气瓶出口处,因此这种方式将气瓶压力可能发生的危险缩小至气瓶间内,可对人体及仪器的伤害可降到1低。

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