磁控溅射法定义是什么？
磁控溅射法是在高真空充入适量的Ar气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加几百K直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使Ar气发生电离。Ar离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。
离子溅射镀膜机
多靶离子束溅射镀膜机系统在光学薄膜沉积应用中处于较高地位。多
多弧离子镀膜机厂家
磁控溅射法定义是什么？
磁控溅射法是在高真空充入适量的Ar气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加几百K直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使Ar气发生电离。Ar离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。
离子溅射镀膜机
多靶离子束溅射镀膜机系统在光学薄膜沉积应用中处于较高地位。多靶离子束溅射镀膜机是当今仅存的在同一系统可互换使用行星型，简单旋转型或可翻转型基片装置的系统。
在通信应用上，能用于沉积高产值的200，100和50GHz具有窄通带,宽截止频带,高隔离度,低插损特性的DWDM滤波器，满足为严格的性能指标。在其它光学应用上，多靶离子束溅射镀膜机能用于沉积增透膜，复杂的非四分之一波长膜层，以及吸收和散射百万分位的超低损耗激光镜。
卷绕真空镀膜机结构设计应该注意的几个问题
真空镀膜机使用的行业不一样，它的机型是不一样的，那么它的结构设计也是有很大的差别。在设计真空镀膜机的时，我们都是要考虑到很多因素，比如：要镀的物件大小，使用的材质，以及它的热点，和其他的一些细节注意事项等，都会影响真空镀膜机的结构设计，那么卷绕真空镀膜机结构设计应该注意那几个问题呢？下面至成真空小编，为大家详细介绍一下：
1、提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度，它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min，现在也只有80m/min～120m/min，在国外日本的EW系列产品中，其卷绕速度已达到300m/min，德国L．H公司生产的镀膜机已达到600m/min，可见随着镀膜技术的发展，卷绕速度有待提高。
2、带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要，因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定，才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜（如电容器膜）尤为重要。
3、带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高，带状基材在卷绕镀膜过程中，起褶和发生偏斜，严重时会造成基材的断裂，使生产中断，既影响生产效率，又浪费材料。因此，在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。
卷绕镀膜机真空抽气系统分上室下室两组，下室为蒸镀室，要求真空度高，主泵多为油扩散泵。上室为基材卷绕室，要求真空度较低，为罗茨泵机组或扩散泵一罗茨泵一机械泵组。一般蒸镀室要达到的真空度为1x10^-3Pa—2×10^-3Pa，而工作压力为1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷绕室真空度通常较蒸镀室低一个数量级。有时卷绕镀膜机以增扩泵（油扩散泵的一种）为主泵，它的极限压力虽然不及油扩散泵，但其抽速范围向高压方向延伸一个数量级，非常适宜此类蒸发的镀膜过程。
多弧溅射在靶材上施小电压大电流的作用
多弧溅射在靶材上施小电压大电流使材料离子化（带正电颗粒），从而高速击向基片(负电)并沉积，形成致密膜坚硬膜。主要用于耐蚀膜。中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳极,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳极阴极的安排有关,参与的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的溅射产额,得到不相同的离子密度中频溅射主要技术在于电源的设计与应用,目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出,各有其优缺点,首先应考虑膜层种类,分析哪种电源输出方式适合哪种膜层,可以用电源特性来得到想要的膜层效果.中频溅射也是磁控溅射的一种,一般真空镀膜机磁控溅射靶的设计,磁场的设计是各家技术的重点,国际几个有名的溅射靶制造商,对靶磁场的设计相当,改变磁场设计能得到不相同的等离子体蒸发量.电子的路径,等离子体的分布.关于阴极弧（也就是离子镀），磁控溅射，以及坩埚蒸发都属于PVD（物理气相沉积），坩埚蒸发主要是相变，蒸发靶材只有几个电子伏特的能量。
离子真空镀膜机镀膜应用范围介绍
近很多客户关于离子真空镀膜机相关知识，问的问题各不相同，但是从这些问题里面能发现一个问题，客户对离子镀膜机相关知识了解甚少，只是停留在基础表面，因此在和我们沟通的过程中，会出现沟通不是很顺利，因为我们需要详细的介绍很多性的问题。今天至成真空小编趁着这个机会，为大家详细介绍一下离子真空镀膜机镀膜应用范围，这样大家以后也知道离子真空镀膜机后期能运用到哪些行业，及离子镀膜机能镀什么产品。
1、离子真空镀膜机镀膜的应用范围：半导体集成电路、光导纤维、太阳能电池、太阳能热水器、太阳灶、光盘、磁盘、敏感元件、平板显示器、选择吸收玻璃、智能窗玻璃、人体植入部件等功能薄膜；
2、离子镀膜技术应用范围：工模具超硬涂层、航天轴承、机械零件；汽轮机叶片的耐蚀涂层；装饰件、手机配件。
3、离子镀薄膜的膜层结构：单源单层：氮化钛涂层TiN、TiC、ZrN、CrN、AlN等。硬度约1800—2600Hv；多元单层：TiCN、TiAlN等。硬度2200—2800Hv；复合涂层：TiN/TiCN、TiN/TiCN/TiN、TiN/ZrN、TiN/CrN、TiN/AlN、TiN/C3N4、TiN/C3N4/DLC等。硬度3500—4500Hv；
4、纳米结构涂层；多层膜中的每一层厚度为nm,也称之为“调制周期”。各层可以是化合物/化合物，也可以是金属非晶/纳米金属化合物，如
