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蚀刻是金属板模图纹装饰过程中的关键，要想得到条纹清晰、装饰性很强的图纹制品，必须注意控制好蚀刻工艺的条件。蚀刻：蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理是氧化bai还原反应中的置换反应：2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应，蚀去线路板上不需要的铜，得到所要求的线路。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，拉丝面曝光显影价格，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。手机壳曝光显影工厂
曝光显影把菲林膜与底版在晒版机内压紧，曝光显影加工，用碳精灯或氙灯进行曝光。网框与光源的距离为50－60厘米，曝光时间2－6分钟。喷制刻版漆膜纸：将描图纸用浆糊粘在平整的木版上，用排笔把橡胶水1份（体积比），q油1份调好，均匀地涂在纸面上，⑶转贴：雕刻图形之后，便可以往事先做好的丝网框上转贴了。方法是把刻好的漆膜放在网框下面压紧，用棉花沾少许稀料在上面轻轻复擦，至漆膜与丝网粘牢为止，显影：曝光后，将菲膜放在平板上，曝光显影厂，用温水浸润网膜1－2分钟，用水喷头喷淋，用水溶去非感光部分手机壳曝光显影工厂
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