中频磁控溅射镀膜设备有哪些特点
中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜。中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象；减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。
新研发平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种
光学镀膜设备厂家
中频磁控溅射镀膜设备有哪些特点
中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜。中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象；减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。
新研发平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。
真空电镀设备的监控方法
真空电镀设备的监控方法
1、目视监控：使用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有一定的误差，所以不是很准确，需要依靠经验。
2、极值监控法：当膜厚度增加的时候其反射率和穿透率会跟着起变化，当反射率或穿透率走到极值点的时候，就可以知道镀膜之光学厚度ND是监控波长（入）的四分之一的整倍数。但是极值的方法误差比较大，因为当反射率或者透过率在极值附近变化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有变化。反映比较灵敏的位置在八分之一波长处。
3.定值监控法：此方法利用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为停止镀膜点。
真空镀膜机如何安全操作
真空镀膜机如何安全操作
真空系统，真空系统，高温真空泵油加系统的使用，真空镀膜机稍有不慎燃烧的危险，所以在工作的过程中，必须严格操作过程中安装和操作规范，要慎重，热泵经验人是危险的，旋转部件可能伤害人的危险，所以要注意在生产过程中不可接近的增压泵和扩散泵，滑阀泵与罗茨泵的手术前护罩必须是完整的，人不可近。真空镀膜机的设备卷绕系统可能是危险的伤害在操作过程中的人，真空镀膜机所以在后掩蔽和清洁辊速度不太快，不超过30米/分钟，速度不超过10米/分钟的电影。
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