2.净化工程用于实验室
空气中的灰尘和离子干扰了实验过程，影响了实验的准确性，特别是在一些高科技研发场所，灰尘颗粒的要求非常严格。
3.净化工程应用于生产车间
由于技术的发展，对产品的需求更为迫切，如生产车间超大集成电路的研究和制造。例如，半导体的生产需要洁净室，以确保工作环境中的颗粒、温度和湿度，任何一项达不到标准都可能会影响制造设备的性能和可靠性。
净化车间厂家
2.净化工程用于实验室
空气中的灰尘和离子干扰了实验过程，影响了实验的准确性，特别是在一些高科技研发场所，灰尘颗粒的要求非常严格。
3.净化工程应用于生产车间
由于技术的发展，对产品的需求更为迫切，如生产车间超大集成电路的研究和制造。例如，半导体的生产需要洁净室，以确保工作环境中的颗粒、温度和湿度，任何一项达不到标准都可能会影响制造设备的性能和可靠性。
4.净化工程适用于行业
随着手术室的洁净度提高，术后率从8.9降至0.26，手术室净化已成为医院水平的重要指标，特别是在一些大型医院，需要净化手术室，为移植等困难复杂的手术提供合适的空间。
普通车间对洁净度等级不是可控性的，但净化工程洁净车间能确保并保持洁净度等级。净化工程洁净车间在空气净化全过程中，除开选用初、中效过滤器外，还会继续开展过滤，将空气中活的微生物开展消菌，确保生产车间内气体洁净度等级;空气过滤工程项目中送排风量要比普通车间大许多，一般状况下，普通车间8-10次/H通气，单边流净化工程洁净车间400-600次/H通气;净化工程洁净车间内時刻维持在正压力情况，避免 外部空气污染物进到洁净区，而普通车间并不注重这一点。
洁净室中的温湿度控制
相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产佳湿度范围为35-45%。对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。
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