PLD脉冲激光沉积系统介绍
PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。
期望大家在选购脉冲激光沉积时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多脉冲激光沉积的相关资讯，欢迎
脉冲激光沉积装置公司
PLD脉冲激光沉积系统介绍
PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。
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脉冲激光沉积的应用领域
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。
应用领域：
单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）
压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）
铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）
热电薄膜（SrTiO3）
金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）
半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）
高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）
超导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）
光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）
超疏水薄膜（PTFE）
红外探测薄膜（V2O5，PZT）
PLD 主要选件
离子辅助沉积 (IBAD)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统，该系统将PLD 在沉积复杂材料方面的优势与IBAD 能力结合在一起。
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