光学反光杯表面镀膜工艺流程
以塑料反光杯为例，真空镀膜大致需要以下步骤：1. 注塑工件经过静电除尘后上架。
2. 上架后放入真空镀膜机内抽真空。
3. 当真空抽至接近真空状态，再对产品进行轰击除去产品表面的微粒，以达到产品表面的光洁，此次轰击保证产品与真空铝膜牢固附着。
4. 轰击完成后，继续抽真空，再进行放电熔铝，再将熔化的铝膜蒸发至产品表面（
工程车辆反光杯开发
光学反光杯表面镀膜工艺流程
以塑料反光杯为例，真空镀膜大致需要以下步骤：1. 注塑工件经过静电除尘后上架。
2. 上架后放入真空镀膜机内抽真空。
3. 当真空抽至接近真空状态，再对产品进行轰击除去产品表面的微粒，以达到产品表面的光洁，此次轰击保证产品与真空铝膜牢固附着。
4. 轰击完成后，继续抽真空，再进行放电熔铝，再将熔化的铝膜蒸发至产品表面（此时产品表面已经均匀附着了一层明亮如镜的铝膜）。
5. 将硅油放入真空镀膜腔中，进行等离子轰击，使其变性，形成氧化硅，二氧化硅保护层。
6. 冲完硅油后，再以直流电对附着在产品上面的硅油进行离化处理，经过产品表面硅油完全固化，保证铝膜能长时间不被氧化。
7. 离化完成后，充气开门，产品下架包装完成，真空镀膜就完成了。
从镀膜的原理及特点看，真空蒸镀工件不带电，真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面，沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。溅射的工件为阳极，靶为阴极，利用原子的溅射作用把靶材原子击出而沉积在工件表面上，沉积原子的能量由被溅射原子的能量分布决定。离子镀的工件为阴极，蒸发源为阳极，进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件，并在工件表面沉积成膜，沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用，粒子的能量决定于阴极上所加的电压。
真空镀膜基本方法 ：
从被沉积物质的气化方式看，真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等；溅射的镀料原子不是靠加热方式蒸发，而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子；离子镀可以分为蒸发式或者溅射式，蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等，溅射式由进入辉光放电空间的原子由气体提供，反应物沉积在基片上。
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镀膜加工后的产品可以根据使用场合的需要赋予产品良好的性能，比如大多数电子消费品加工制造过程强调的电磁屏蔽性能即可通过在塑胶件内壁进行导电性真空镀膜加工的方式而获得，在相同地功效下，相对于原来采用铜箔或铝箔的制造工艺，镀膜工艺具有很大的优势。
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在真空条件下利用某种方法，在固体表面上镀一层与基体材料不同的薄层材料，也可以用固体本身生成一层与基体不同的薄层材料。这就是真空镀膜技术。在固体表面上镀上一层薄膜，就能使该基体材料具有许多新的物理和化学性能。因此，真空镀膜技术又称表面改性技术。
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