常用永磁体有钕铁硼磁体。即磁体是通过粉末冶金工艺烧结成型的产品，因其中的富钕相、钕铁硼主体及边界很容易形成晶间腐蚀，并且稀土元素钕性质活泼，因而使得整个钕铁硼材料的耐蚀性极差，在潮湿环境下极易氧化生锈腐蚀。
目前，常见的钕铁硼磁体的防腐方法主要有电镀、磷化、电泳等。但这些常规电镀方法普遍存在各种各样的问题，例如工艺稳定性不好，适用范围较窄，防腐
parylene 镀膜
常用永磁体有钕铁硼磁体。即磁体是通过粉末冶金工艺烧结成型的产品，因其中的富钕相、钕铁硼主体及边界很容易形成晶间腐蚀，并且稀土元素钕性质活泼，因而使得整个钕铁硼材料的耐蚀性极差，在潮湿环境下极易氧化生锈腐蚀。
目前，常见的钕铁硼磁体的防腐方法主要有电镀、磷化、电泳等。但这些常规电镀方法普遍存在各种各样的问题，例如工艺稳定性不好，适用范围较窄，防腐能力不足，设备投资大，运行成本高等问题。
真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MI-CVD(中温化学气相沉积)等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。目前较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，性比磁控溅射法成膜差。可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法増厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。
纳米镀膜技术是将纳米级的二氧化硅均匀的涂抹在手机屏面，让二氧化硅慢慢的渗透并填充屏面凹陷坑洼处，在自然温度下静置5-10分钟等待固化，或者使用的纳米镀膜机固化，形成有9H硬度的保护涂层。
同时，早期手机贴膜的材质都是塑料成分，透光率不好，屏面整体可视性差，太阳光下的反光现象伤害视力，越看不清越努力的看更是损伤眼睛的健康；而纳米镀膜的微薄涂层透光率高，呈现效果清晰,还能有效还原屏幕原有的画质色彩，极大提升手机的使用感。
从材质的健康角度来说，贴膜的塑料成分中含有苯，苯的有毒性大家共知，长期接触人体饱受；而纳米的属性是无毒、无味的食品等级，是儿童都可以触碰的无毒产品，衡量利弊当然还是纳米镀膜好。
1、派瑞林真空镀膜设备有效应用于磁性材料领域，派瑞林的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型或者超小型磁材，几乎都采用派瑞林镀膜工艺作绝缘和防护涂层。
2、派瑞林真空镀膜设备有效应用于印制电路组件和元器件领域，镀膜材料通过派瑞林真空镀膜设备使得活性的对二双游离基小分子气在印制电路组件表面沉积聚合完成。气态的小分子能渗透到包括贴装件下面任何一个细小缝隙的基材上沉积，形成分子量约50万的高纯聚合物。
3、派瑞林真空镀膜设备有效应用于微电子集成电路领域，派瑞林的真空气相沉积工艺不仅和微电子集成电路制作工艺相似，而且所制备的派瑞林涂层介电常数也低，还能用微电子加工工艺进行刻蚀制图，进行再金属化，因此派瑞林（Parylene）不仅可用作防护材料，而且也能作为结构层中的介电材料和掩膜材料使用，经派瑞林（Parylene）涂敷过的集成电路芯片，其25um细直径连接线，连接强度可提高5-10倍。
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