真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。镀膜技术在信息存储领域中的应用薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势：由于薄膜很薄可以忽略涡流损耗。真空镀膜设备若有灰尘，将会影响真空镀膜的效果和质量。真空镀膜设备真空热处理是指金属制件在真空或先抽真空后通惰性气体条件下加热，然后在油或气体中淬火冷却的技术。由于真空热处理时，工件基本不氧化，钢件不脱碳，采用通气对流加热
有机高分子镀膜设备制造商
真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。镀膜技术在信息存储领域中的应用薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势：由于薄膜很薄可以忽略涡流损耗。真空镀膜设备若有灰尘，将会影响真空镀膜的效果和质量。真空镀膜设备真空热处理是指金属制件在真空或先抽真空后通惰性气体条件下加热，然后在油或气体中淬火冷却的技术。由于真空热处理时，工件基本不氧化，钢件不脱碳，采用通气对流加热方式还可使加热均匀，减少表面和心部的温差，从而也减少畸变。目前它已成为工模具不可或缺和的热处理工艺。
在真空条件下加热工件，主要依赖辐射。由于辐射传热与温度的4次方成比例，所以在850℃以下辐射效果不高，工件加热速度很慢
在选择真空镀膜设备时会考虑设备的各种性能特点，结合自身所镀产品的需要综合考核
根据设备使用特点，可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。
真空镀膜设备充气方式的选择。
根据工艺要求选择镀制方式及形式。
夹具运转形式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。
根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
真空镀膜设备膜层附着力不良：(1)镀件除油脱脂不干净。膜厚决定于蒸发专源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。应加强镀前处理。(2)真空室内不清洁。应清洗真空室。值得注意的是，在装靶和拆靶的过程中，严禁用手或不干净的物体与磁控源接触，以保证磁控源具有较高的清洁度，这是提高膜层结合力的重要措施之一。(3)夹具不清洁。应清洗夹具。(4)底涂料选用不当。应更换涂料。(5)溅射工艺条件控制不当。应改进溅射工艺条件。
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