块状样品的制备块状样品的制备
对于块状导电样品，基本上不需要进行什么制备，只要其大小适合电镜样品底座尺寸大小，即可直接用导电胶带把样品黏结在样品底座上，放到扫描电镜中观察，为防止假象的存在，在放试样前应先将试样用或酒精等进行清洗，必要时用超声波清洗器进行清洗。对于块状的非导电样品或导电性较差的样品，要行镀膜处理，否则，样品的表面会在高强度电子束作用下产生电荷堆积，影
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块状样品的制备
块状样品的制备
对于块状导电样品，基本上不需要进行什么制备，只要其大小适合电镜样品底座尺寸大小，即可直接用导电胶带把样品黏结在样品底座上，放到扫描电镜中观察，为防止假象的存在，在放试样前应先将试样用或酒精等进行清洗，必要时用超声波清洗器进行清洗。对于块状的非导电样品或导电性较差的样品，要行镀膜处理，否则，样品的表面会在高强度电子束作用下产生电荷堆积，影响入射电子束斑和样品发射的二次电子运动轨迹，使图像质量下降，因此这类样品要在观察前进行喷镀导电层的处理，在材料表面形成一层导电膜，避免样品表面的电荷积累，提高图象质量，并可防止样品的热损伤。
扫描电子显微镜(SEM)之样品导电膜的制备技术
扫描电子显微镜（SEM）之样品导电膜的制备技术
理想膜层的特点
良好的导热和导电性能。
在3-4nm分辨率尺度内不显示其几何形貌特点，避免引入不必要的人为图像。
不管样品的表面形貌如何，覆盖在所有部位的膜层需要薄厚均匀。
膜层对样品明显的化学成分产生干扰，也不显着的改变从样品中发射的X射线强度。
这层膜主要增加样品表面的导电性能和导热性能，导电金属膜层的厚度普遍电位在1-10nm。
导电膜制备技术
在样品表面形成薄膜有多种方法，对于扫描电镜和X射线显微分析，只有热蒸发和离子溅射镀膜实用。
蒸发镀膜：许多金属和无机绝缘体在真空中被某种方法加热，当温升足够高蒸发气压达到1.3Pa以上时，就会迅速蒸发为单原子。
扫描电子显微镜(SEM)之样品处理的要求
扫描电子显微镜（SEM）之样品处理的要求
1、样品表面须导电。
在大多数情况下，初级电子束电荷数量都大于背散射电子和二次电子数量之和，因此多余的电子须导入地下，即样品表面电位须保持在0电位。如果样品表面不导电，或者样品接地线断裂，那么样品表面静电荷存在，使得表面负电势不断增加，出现充电效应，使图像畸变，入射电子束减速，此时样品如同一个电子平面镜。
2、在某些情况下，样品制备变成重要的考虑因素。
若要检测观察弱反差机理，就须消除强反差机理（例如，形貌反差），否则很难检测到弱的反差。当希望EBSD背散射电子衍射反差，I和II型磁反差或其他弱反差机理时，磁性材料的磁畴特性须消除样品的形貌。采用化学抛光，电解抛光等，产生一个几乎消除形貌的镜面。
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