印刷晒版的操作步骤及工艺流程
曝光机也是晒版机，只是叫法不同。
晒版的工艺流程为：制备感光版-装版-曝光-显影-检查-修正-烤版-提墨-擦胶
检查修正：将曝光、显影后的PS版存在的质量问题加以修正。
烤版：指在高温环境中对PS版的图文基础进行热处理，目的是增强图文部分的稳定性、耐蚀性和机械强度。
提墨：在版面上涂擦显影墨。提墨具有增强图文部
LDI直接成像曝光机厂家
印刷晒版的操作步骤及工艺流程
曝光机也是晒版机，只是叫法不同。
晒版的工艺流程为：制备感光版-装版-曝光-显影-检查-修正-烤版-提墨-擦胶
检查修正：将曝光、显影后的PS版存在的质量问题加以修正。
烤版：指在高温环境中对PS版的图文基础进行热处理，目的是增强图文部分的稳定性、耐蚀性和机械强度。
提墨：在版面上涂擦显影墨。提墨具有增强图文部分的亲墨性和便于检查等作用。
擦胶：选用一种化学胶质，涂擦到版面上，从而使印版抗脏、防尘、防氧化。
DI直接成像曝光机
1、产品特点：
初始投入少：购机成本较低，节省传统菲林和曝光机成本，缩短生产时间，特别适用于周期要求短的样板制作。
使用维护成本低：光源寿命长达3 年，厂家提供两年免费保修，可保证极低的使用和维护成本。
待机时不消耗光源：采用“瞬间”曝光模式，无曝光时光源处于关闭状态，不消耗电能，同时提高光源使用寿命，
内置板面清洁系统：内置喷气式空气清洁系统可清洁板面曝光区域，降低对整体环境的要求；特有的DI 多次曝光系统可有效的防止空气中尘埃粒子阻挡光束产生阴影而导致图形的降低。
LDI机
LDI曝光速度的瓶颈因素包括：数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。
以基本的影响因素而言，有三个独立的因子会影响曝光速率：
1、能量密度 2、数据调变的速度 3、机械机构速度
光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光，而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间，高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。5亿成为的综合性核心工艺装备公司，我们覆盖MEMS、IC封装印刷线路板、电子玻璃、光源、印刷与感光材料领域。而曝光系统的功能输出，主要来自于系统的光源设计，所以这是能量与时间的关系与解析度无关。
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