而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求；如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和阻止室内热量外流的要求。 在玻璃上，镀涂一层TiO2就能使其变成防雾、防露和自清洁玻璃。这种工艺在汽车玻璃上有很好的应用。多弧离子镀膜机
车灯真空镀膜
而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求；如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和阻止室内热量外流的要求。 在玻璃上，镀涂一层TiO2就能使其变成防雾、防露和自清洁玻璃。这种工艺在汽车玻璃上有很好的应用。多弧离子镀膜机
镀膜技术在平板显示器中的应用 所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜，而且几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ITO膜，以满足透明电器的要求。可以毫不夸张的说：没有薄膜技术就没有平板显示器件。
真空电镀设备膜厚的不均匀问题
无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。镀膜技术在防伪技术中的应用防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式。
在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。镀膜技术在集成电路制造中的应用晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、电极管线（多晶硅、铝、铜及其合金）等多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术。能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。
真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类。
真空镀膜设备膜层灰暗及发黑：(1)真空度0.67Pa。应将真空度提高到0.13-0.4Pa。(2)气的纯度99.9％。应换用纯度为99.99％的气。(3)充气系统漏气。应检查充气系统，排除漏气现象。(4)底漆未充分固化。应适当延长底漆的固化时间。(5)镀件放气量太大。应进行干燥和封孔处理。真空镀膜设备膜层表面光泽暗淡：(1)底漆固化不良或变质。应适当延长底漆的固化时间或更换底漆。2、规范操作人员及操作要求，包括穿戴的服装、手套、脚套等。(2)溅射时间太长。应适当缩短。(3)溅射成膜速度太快。应适当降低溅射电流或电压。
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