化学抛光的原理：金属试样表面各组成相的电化学电位不同，形成了许多微电势，在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜，试样表面凸出部分由于粘膜薄，金属的溶解扩展速度较慢，抛光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能达到十分理想的要求。
在化学抛光过程中，金属零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解，且前者要强于后者。由于零件表面微观的
不锈钢化学抛光处理
化学抛光的原理：金属试样表面各组成相的电化学电位不同，形成了许多微电势，在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜，试样表面凸出部分由于粘膜薄，金属的溶解扩展速度较慢，抛光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能达到十分理想的要求。
在化学抛光过程中，金属零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解，且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性，表面微观凸起部位优先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率；而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行，只是其速率有差异，结果使金属零件表面粗糙度得以整平，从而获得平滑光亮的表面。化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷，从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。
化学抛光中往往同时产生氢气，这是在抛光具有氢脆敏感性材料时必须注意的问题。另外抛光液温度高达100~200CC时，还会发生退火作用。为了把氢脆和退火作用的影响降到，就必须在适温度范围内选择尽可能短的抛光时间。
化学抛光与机械研磨抛光有本质上的不同。
化学抛光是将被研磨面上的微小凸部与凹部相比较的情况下使其凸部优先溶解，改善金属表面粗糙度，获得平滑光亮表面的过程。
化学抛光与电解抛光的比较
化学抛光：将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠化学能量自然溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。
电解抛光是将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中，靠电流能量阳极溶解金属表面，获得平滑光亮的表面。
化学抛光仅仅是浸渍作业，操作简单。而电解研磨抛光需要大容量直流电，还要合理设置电流对极，控制电流电压，操作工艺复杂，质量控制困难，有些特殊工件还不能处理。
化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛光过程中,钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。
物理抛光和化学抛光有的区别 物理抛光是用机械方式将物体表面整平，例如研磨等。化学抛光是用化学腐蚀的方式将物体表面整平，例如用加入整平剂的硫酸清洗金属表面。不锈钢化学抛光处理
为了保证化学抛光的效果，必须使金属表面溶解，并在表面上形成液体膜或固体膜。因此，金属的化学抛光液必须具有溶解金属的能力和形成保护膜的能力。化学抛光液的基本组成一般包括腐蚀剂、氧化剂、添加剂和水。
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