等离子体化学气相沉积
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。
等离子体化学气相沉积简称PCVD，是一种用等离子体激发反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，利用低温等离子体作为能量源，通入适量的反应气体，利用等离子体
化学气相沉积设备公司
等离子体化学气相沉积
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。
等离子体化学气相沉积简称PCVD，是一种用等离子体激发反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。等离子体化学气相沉积技术的基本原理是在高频或直流电场作用下，源气体电离形成等离子体，利用低温等离子体作为能量源，通入适量的反应气体，利用等离子体放电，使反应气体激发并实现化学气相沉积的技术。5)利用调节沉积的参数，可以有效地控制覆层的化学成分、形貌、晶体结构和晶粒度等。
ICP刻蚀机装片介绍
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享ICP刻蚀机的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！
等离子体系统效应的过程转换成材料的蚀刻工艺。在待刻蚀硅片的两边，分别放置一片与硅片同样大小的玻璃夹板，叠放整齐，用夹具夹紧，确保待刻蚀的硅片中间没有大的缝隙。冷热探针法将夹具平稳放入反应室的支架上，关好反应室的盖子。等离子刻蚀检验原理为冷热探针法，具体方法如下：热探针和N型半导体接触时，传导电子将流向温度较低的区域，使得热探针处电子缺少，因而其电势相对于同一材料上的室温触点而言将是正的。同样道理，P型半导体热探针触点相对于室温触点而言将是负的。此电势差可以用简单的微伏表测量。等离子刻蚀机的典型应用包括：等离子体清除浮渣光阻材料剥离表面处理各向异性和各向同性失效分析应用等离子刻蚀反应材料改性包装清洗钝化层蚀刻聚亚酰胺蚀刻增强粘接力生物医学应用聚合反应混合物清洗预结合清洗。热探针的结构可以是将小的热线圈绕在一个探针的周围，也可以用小型的电烙铁。
ICP刻蚀机的操作及判断
1. 确认万用表工作正常，量程置于200mV。
2.冷探针连接电压表的正电极，热探针与电压表的负极相连。
3.用冷、热探针接触硅片一个边沿不相连的两个点，电压表显示这两点间的电压为正值，说明导电类型为P 型，刻蚀合格。相同的方法检测另外三个边沿的导电类型是否为P型。
4.如果经过检验，任何一个边沿没有刻蚀合格，则这一批硅片需要重新装片，进行刻蚀。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ,服务至上为宗旨。公司生产、销售ICP刻蚀机,公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！
（作者： 来源：）
