被抛光表面的光亮度，可通过选用不同的工艺规范来控制。对某些光亮度要求很高的制件，仅用化学抛光不容易达到要求，通常化学抛光的光亮度不及机械抛光，有时化学抛光后还需机械抛光。化学抛光前，必须对抛光制件进行清洗，包括除油污和除锈蚀。工艺的性较强。
化学抛光不只限于能获得光亮的金属表面，它还对金属的许多物理原化学性质及腐蚀性质有良好的影响。众所周知，化学抛光能改善金属的光学性
不锈钢化学抛光厂
被抛光表面的光亮度，可通过选用不同的工艺规范来控制。对某些光亮度要求很高的制件，仅用化学抛光不容易达到要求，通常化学抛光的光亮度不及机械抛光，有时化学抛光后还需机械抛光。化学抛光前，必须对抛光制件进行清洗，包括除油污和除锈蚀。工艺的性较强。
化学抛光不只限于能获得光亮的金属表面，它还对金属的许多物理原化学性质及腐蚀性质有良好的影响。众所周知，化学抛光能改善金属的光学性质(反光系数或光反射率)和机械性能，减小金属之间的摩擦系数，提高金属在冷作状态下的塑性变形能力，增大某些磁性材料的导磁系数，消除冷发射现象等
化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光设备简单，能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件，生产。化学抛光可作为电镀预处理工序，也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。
为了进行化学抛光，必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解，因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。
半导体材料的化学抛光，如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后，还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、硫酸混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。
化学抛光不只限于能获得光亮的金属表面，它还对金属的许多物理原化学性质及腐蚀性质有良好的影响。不锈钢化学抛光厂化学抛光是将被研磨面上的微小凸部与凹部相比较的情况下使其凸部优先溶解，改善金属表面粗糙度，获得平滑光亮表面的过程。
化学抛光同机械抛光相比，是一种更为、更为科学的抛光方法，其特点为：可用于机械抛光甚感困难或无法加工的制件。如形状、结构比较复杂，具有不规则凹、凸结构的制件，狭小缝隙或孔洞的内表面，精细薄小的制件等。
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