脉冲激光沉积简介
脉冲激光沉积，就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。连续激光：纤绿激光激光泵浦源持续提供能量，长时间地产生激光输出，从而得到连续激光。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物
脉冲激光沉积设备报价
脉冲激光沉积简介
脉冲激光沉积，就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。连续激光：纤绿激光激光泵浦源持续提供能量，长时间地产生激光输出，从而得到连续激光。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。
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脉冲激光沉积介绍
脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。【设备主要用途】PLD450A型脉冲激光沉积设备采用PLD脉冲激光沉积技术，用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。PLD 的之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外，PLD 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。
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PLD 主要选件
离子辅助沉积 (IBAD)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统，该系统将PLD 在沉积复杂材料方面的优势与IBAD 能力结合在一起。
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