真空镀膜机的厚度均匀性主要取决于
1.基片材料与靶材的晶格匹配度
2.基片表面温度
3.蒸发功率、蒸发率
4.真空度
5.涂层时间和厚度。
成分均匀性：蒸发涂层的成分均匀性不易保证。可调节的具体因素同上。但由于原理上的限制，非单组分涂层的蒸发涂层组分均匀性较差。
晶向均匀性：1、晶格匹配度
玻璃真空镀膜
真空镀膜机的厚度均匀性主要取决于
1.基片材料与靶材的晶格匹配度
2.基片表面温度
3.蒸发功率、蒸发率
4.真空度
5.涂层时间和厚度。
成分均匀性：蒸发涂层的成分均匀性不易保证。可调节的具体因素同上。但由于原理上的限制，非单组分涂层的蒸发涂层组分均匀性较差。
晶向均匀性：1、晶格匹配度 2、基片温度 3、蒸发速率。
镀膜技术在平板显示器中的应用
所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜，而且几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ITO膜，以满足透明电器的要求。可以毫不夸张的说：没有薄膜技术就没有平板显示器件。
镀膜技术在太阳能利用方面的应用
当需要有效地利用太阳热能时，就要考虑采用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所引起的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。
镀膜技术在防伪技术中的应用
防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式；从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜式或间接镀膜剪贴式。
镀膜技术在光学仪器中的应用
人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。
真空镀膜设备真空热处理是指金属制件在真空或先抽真空后通惰性气体条件下加热，然后在油或气体中淬火冷却的技术。
真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。平常我们还应当注意以下几点：
1、真空镀膜设备使用一段时间后，必须要对设备进行清洁维护；
2、保证设施设备及操作环境清洁。如材料、样品放置地环境要求，环境温度湿度要求等；
3、降低真空镀膜设备室内空气流动性低、尽量减小室外灰尘侵入。
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