小型自动磁控溅射仪
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。
1. 溅射室极限真空度：≤6.6×10-6 Pa
2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa；
4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa
5. 溅射真空室1套
磁控镀膜机公司
小型自动磁控溅射仪
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。
1. 溅射室极限真空度：≤6.6×10-6 Pa
2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa；
4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa
5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统
6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%
7. 旋转基片台 1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°C连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示
8. 观察窗口及法兰接口部件 1套
9. 工作气路1套，包含：100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路； DN16充气阀、管路、接头等2路；
10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680L/s ，德国普发Hipace700分子泵）；厚度均匀性主要取决于：1、基片材料与靶材的晶格匹配程度2、基片表面温度3、蒸发功率，速率4、真空度5、镀膜时间，厚度大小。1台机械泵（4L/S） ，1台DN40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，CC150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），节流阀1台，DN40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，
11. 安装机台架组件 1套，由方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。
磁控溅射——溅射技术介绍
直流溅射法：直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料。因为轰击绝缘靶材时，表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高，外加电压几乎都加在靶上，两极间的离子加速与电离的机会将变小，甚至不能电离，导致不能连续放电甚至放电停止，溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材，须用射频溅射法（RF）。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材，须用射频溅射法（RF）。
溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种能量传递过程：入射粒子与靶材原子发生弹性碰撞，入射粒子的一部分动能会传给靶材原子；某些靶材原子的动能超过由其周围存在的其它原子所形成的势垒（对于金属是5-10 eV），从而从晶格点阵中被碰撞出来，产生离位原子；旋转基片台1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。这些离位原子进一步和附近的原子依次反复碰撞，产生碰撞级联；当这种碰撞级联到达靶材表面时，如果靠近靶材表面的原子的动能大于表面结合能（对于金属是1-6eV），这些原子就会从靶材表面脱离从而进入真空。
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磁控溅射设备的主要用途
沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有的技术，我们都以质量为本，信誉高，我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对磁控溅射产品感兴趣，欢迎点击左右两侧的在线客服，或拨打咨询电话。
（1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。
（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。
（3） 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积（CVD）或金属有机
（4）化学气相沉积（CVD）生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得非常均匀的薄膜。
（5） 在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。
（6）在机械加工行业中，表面功能膜、超硬膜，自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展，能有效的提高表面硬度、复合韧性、损性和抗高温化学稳定性能，从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。
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