化学沉镍是通过还原剂提供电子，使得金属离子还原为金属镀在镀件表面的工艺。不同于电镀，化学镀不需要外接电源，而是通过氧化还原反应的化学沉积过程。
化学镀镍，目前市场上比较流行的是以次磷酸盐为还原剂的酸性化学镀镍，在化学镀镍电镀液中，镍离子主要由提供，而还原剂多为次磷酸钠，次磷酸钠的还原性比较强，能够在电镀过程中提供镍离子所需要的电子。另外化学镀镍中，需要有机酸或者其盐类作为
工件沉镍
化学沉镍是通过还原剂提供电子，使得金属离子还原为金属镀在镀件表面的工艺。不同于电镀，化学镀不需要外接电源，而是通过氧化还原反应的化学沉积过程。
化学镀镍，目前市场上比较流行的是以次磷酸盐为还原剂的酸性化学镀镍，在化学镀镍电镀液中，镍离子主要由提供，而还原剂多为次磷酸钠，次磷酸钠的还原性比较强，能够在电镀过程中提供镍离子所需要的电子。另外化学镀镍中，需要有机酸或者其盐类作为络合剂使用，络合剂能够与镍离子结合成复杂的络合离子，这样可以避免次磷酸镍沉淀的形成，化学镀镍中，常见的络合剂包括，乙醇酸、柠檬酸、乳酸、苹果酸、琥珀酸等。一般不采用碳链过长的有机酸作为络合剂。
化学镍处理药剂
化学镍废水，除磷需要使用次亚磷去除剂P3进行处理，除镍需要通过除镍剂M2进行处理，能够把镍磷处理至表三标准。
次亚磷去除剂P3是一种无机复合盐，在废水中，的催化作用下，能够直接与次磷酸根离子结合生成沉淀;髙效除镍剂是一种有机化合物，通过螯合的原理，把络合镍中的络合剂破坏掉，从而与镍离子结合生成沉淀。
除磷剂去除
化学镍中磷的用途
氧化+传统除磷剂处理
有的工艺选用芬顿氧化技艺或许次氯
l酸钠，先把次亚磷氧化为正磷，再增加除磷剂进行处理。这种道理只是逗留在评论阶段，从氧化效率而言，芬顿氧化技艺并不能把全部的次亚磷均氧化为正磷，因此经过这种工艺只能处理一部分次亚磷，废水中仍含有大量的次亚磷无法去除。
因此关于电镀化学镍废水中的磷，运用次亚磷去除剂，诈
l骗均相共积淀技艺可以很好处理，而选择传统除磷剂，甚而是氧化后再加除磷剂进行处理均不能处理达标。
化学沉镍厂家介绍从各种待退役的设施中.可能产生的废金属类别有:不锈钢、碳钢、镍和镍基合金、铜及铜基合金、铝及铝基合金等。由于各种设施的复杂性和任务上的差别，废金属的几何形状也千差万别。
化学法初步深度去污技术
一般来说，初步去污技术用于金属设备拆卸前，其作用是尽可能减少设备内的放1射性物质、以便降低退役作业人员的职业受照剂量，并为设备拆卸创造条件。而深度去污常用于金属设备解体后的去污，其作用是尽可能使放1射性污染废金属达到清洁解控水平或限制性利用水平。
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