霍尔离子源的特征在哪首先阴极在离子源腔内产生等离子体，然后通过两三层阳极栅将离子从等离子体腔中抽出。该离子源方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜。缺点是阴极(通常是钨丝)在反应气体中很快烧坏，离子通量有限，可能会让需要大离子通量的用户不舒服。霍尔离子源是一种阳极，在强轴向磁场的作用下对过程气体进行等离子体处理。这种轴向磁场的强烈不平衡分离了气体离子并形成离
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霍尔离子源的特征在哪
首先阴极在离子源腔内产生等离子体，然后通过两三层阳极栅将离子从等离子体腔中抽出。该离子源方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜。缺点是阴极(通常是钨丝)在反应气体中很快烧坏，离子通量有限，可能会让需要大离子通量的用户不舒服。霍尔离子源是一种阳极，在强轴向磁场的作用下对过程气体进行等离子体处理。这种轴向磁场的强烈不平衡分离了气体离子并形成离子束。由于轴向磁场太强，霍尔离子源的离子束需要补充电子来中和离子电流。常见的中和源是钨丝(阴极)。霍尔离子源的特征在于：
PVD法历早采用真空蒸镀技术
PVD是一种物理气相沉积法，它分为：真空蒸发法、真空溅射法和真空离子法。PVD镀膜通常指的是真空离子镀膜；NCVM镀膜通常指的是真空蒸发镀膜和真空溅射镀膜。真空镀的基本原理：在真空条件下，金属、金属合金等被蒸发蒸发，然后沉积到基体表面，蒸发法通常采用电阻加热，电子束轰击镀料，使其蒸发成气相，然后沉积到基体表面，PVD法历早采用真空蒸镀技术。
800-850摄氏度的温度下还原，得到钛：2Mg（液体）+TiCl4（气态）→2MgCl2（液体）+Ti（固体）需要进一步处理以从所得产物的混合物中提取钛。这可以通过真空蒸馏来实现。通过该过程获得的金属是高纯度和延展性的。这是目前全世界已建立的商业流程。钛的用途钛由于其高拉伸强度，低密度和轻重量，是用于航空，航天器和计划的金属的选。它与其他金属形成高强度合金的能力增强了其制造手术器械和假肢的可用性。由于其多功能性，钛的用途很多。
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