镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率
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镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。
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离子镀膜技术发展很快,离子镀的方法也较多,常见的有空心阴极离子镀、真空多弧离子镀、磁控溅射离子镀等。这几种方法各有特点,例如,多弧离子镀比较适台于仿金镀和的镀膜,成膜速度快,宜形成较厚的薄膜磁控溅射离子镀生成的薄膜致密性好,膜的质量高。
镀膜：是一种物理气相沉积工艺，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀素材上的薄膜技术。在零件表面上形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法，从而满足产品的耐腐蚀性、性、装饰等功能要求。
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