真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MI-CVD(中温化学气相沉积)等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。目前较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变
塑料真空镀膜
真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MI-CVD(中温化学气相沉积)等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。目前较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，性比磁控溅射法成膜差。可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法増厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。
现在有采用 大型 喷涂 、直接 浸渍 、小型 设备 喷涂 、淋涂、刷涂 等多种 方式 ，各有 优缺点 ，应选择 既节约成本，操作 简单 ，又能保证质量 的方法 ，尽量 不对N多参数 的涂料 进行 调整 ，调制 工序 复杂 的涂料 产品 ，不可控因素较多的涂料 产品 也不易 选择 ，如涂布 过程 中经常 起泡 ，或涂膜 速度 过慢 等。
同时 还要 采用 多种 方法 进行 对比 试验 ，在有限 的条件 下尽量 挑选 几种 涂敷 方式 进行 试验 比较 ，从工序 、工时 、标准化 程度 、结膜 成功率 、涂敷 均匀度 、干燥 时间 、操作 难度 等方面 入手 ，找出 比较 适宜 的进行 小批量 试产 ，然后 推广 到大批量 应用 。
由于PVD涂层能提供更好的边缘保持力，防止氧化和腐蚀，在切削过程中保持清晰，不会与骨骼、组织或体液发生反应，故而，越来越多都用于，例如锋利的手术器械、针头、钻头、、各种装置组件以及应用的“磨损”部件。PVD功能性硬涂层(如DLC，TIN)已广泛应用在不锈钢零部件上，作用是可减少摩损和延长零部件寿命，但因为涂层本身有缺陷和，所以使用在一些 耐腐蚀要求高的环境下，效果不佳。PVD功能膜配合纳米透明膜是目前更理想的解决方案：PVD涂层提供性，纳米透明膜提供耐腐蚀性。
PVD工艺一般只是直线沉积，对形状复杂，纵横比高或有深孔的工件是难以得到均匀的厚度。纳米透明膜可解决这问题，无论形状多复杂，每个位置的膜厚都是一致的，没有大偏差。
Parylene涂层也用于硅橡胶键盘。Parylene涂层也用于硅橡胶键盘，防止印刷图案，抵抗表面磨损，解决粘性问题，同时保护键盘免受污垢，灰尘和油污。所施加的膜具有高介电强度，并且不损害下面的橡胶组分的电绝缘性能。Parylene提供无细孔，防止潮湿，腐蚀性体液，常见气体，抑菌和温度。增加涂层厚度可进一步提高化学耐受性和耐溶剂性，而不会增加重量或实质上影响基板的弹性。此外，聚对二薄膜可以除去硅橡胶的粘性，使硅橡胶表面更润滑，改变硅橡胶按键的手感。由于厚度薄，聚对二薄膜是透明或接近透明的，对按键的外观和尺寸没有影响。
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