真空镀膜广泛运用在每个领域之中，在其中不缺机械设备、电子器件、五金、航天航空、化工厂等行业。真空镀膜技术性能优良:涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好,孔隙率低,而且无氢脆现象,相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。膜层具有高硬度、高性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点、表面细腻光滑并富有金属光泽同时颜色均匀一致，大幅度提高工件的外观装饰性能。膜层颜色类型多种多样，表
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真空镀膜广泛运用在每个领域之中，在其中不缺机械设备、电子器件、五金、航天航空、化工厂等行业。真空镀膜技术性能优良:涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好,孔隙率低,而且无氢脆现象,相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。膜层具有高硬度、高性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点、表面细腻光滑并富有金属光泽同时颜色均匀一致，大幅度提高工件的外观装饰性能。膜层颜色类型多种多样，表面细致光洁，颇具金属质感，不容易褪色。车灯反光灯配光
真空镀膜工艺使用越来越广泛，很多制造业有些零部件需要真空镀后满足其使用需求。
真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表面高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果，在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性，出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。
表面处理工艺复杂多样，为了达到同种目的，可以使用很多方法。例如简单的给金属换个其他颜色，就可以选择好几种工艺。但殊途同归，具体要看厂家如何选择。
镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。
镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
随着科技的进步和精密仪器的应用，薄膜厚度测量方法有很多，按照测量的方式分可以分为两类：直接测量和间接测量。直接测量指应用测量仪器，通过接触（或光接触）直接感应出薄膜的厚度。
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