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光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室,已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医1药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。乱流洁净室的主要特点是从来流到出流(从送风口到回风口)之间气流的流通截面是变化的,洁净室截面比送风口截面大得多,因而不能在全室截面或者在全室工作区截面形成匀速气流。光学微电子净化工
无菌实验室净化工程
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光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室,已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医1药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。乱流洁净室的主要特点是从来流到出流(从送风口到回风口)之间气流的流通截面是变化的,洁净室截面比送风口截面大得多,因而不能在全室截面或者在全室工作区截面形成匀速气流。光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除,并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内,而所给于特别设计之密闭空间。
净化工程的设计中的注意事项:划分和布置空调净化和排风系统,选择合理的空气净化通风设备。设计净化系统组织的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近,也不能相差太大。一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。也可分四级,增加一级过滤器。排风系统有一般排风系统、有机气体排风系统、酸性气体排风系统、碱性气体排风系统等,净化车间设计时,要根据实际情况选择。

净化工程要求翻新:所有建筑构件隔板天花板固定装置和吊架应连接到主结构,不得连接到设备支架,如输送臂,管道吊架和管道支架。当用弹性材料密封不同材料的接头时,应保留适当宽度和深度的槽或间隙。管道隐蔽工程应在管道施工完毕并接受压力试验后进行。1气密垫圈应安装在项目检查口周围。在净化工程的地垫下应铺设0.4-0.6MM厚的防水薄膜作为防潮层。结构应与50MM重叠并粘贴,建筑装饰与门窗之间的间隙,应密封在正压面上踢脚板的结构,应为墙面齐平或略缩回2-3MM。拆除隔墙后钻孔管道穿过墙壁,地板穿透,修复重建工程。表面应进行装饰,以防止灰尘掉落。

生物制药洁净工程节能设计如何做到更好?洁净工程节能除以上所说的方面,还可以根据合适的洁净度等级、温度、相对湿度等参数。GMP规定的药厂洁净室生产条件为:温度18℃~26℃,相对湿度45%~65%。考虑到室内相对湿度过高易长霉菌,不利于洁净环境的维持,过低易产生静电,使人体感觉不适。根据制剂生产实际,只有部分工艺对温度或相对湿度有一定要求,其他均着眼于操作人员的舒适感。生物制药厂房的照明对节能也有非常大的影响,制药厂洁净室照明应以能满足工人生理、心理上的要求为前提。对于高照度操作点可以采用局部照明,而不宜提高整个车间的zui低照度标准。同时,非生产房间照明应生产房间,但以不100流明为宜。

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