真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积技术和化学气相沉积技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积的等离子
Parylene镀膜加工厂家
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积技术和化学气相沉积技术。
物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积的等离子化学气相沉积等。
真空镀膜加工工艺中，要求装配到高真空环境的零件，事先都需要小心地进行清洗处理，否则各种污染物可成为大量气体和蒸气的来源，会大大延长真空器件的排气时间，不易获得高真空。
去除或减少污染物将有利于获得良好真空，增加连接强度和气密性，提高产品的寿命和可靠性。真空镀膜设备成膜性能好，真空电镀设备涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。
真空镀膜相较传统水电镀优势哪些？
无环境污染：因为所有的镀层材料都在真空环境下，通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境没有危害。
节约金属材料：因为真空涂层附着力、硬度、致密度以及耐腐蚀性能等非常优良，沉积的镀层厚度可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约材料的目的。
沉积材料广泛：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系。
真空镀膜加工设备完成真空镀膜过程其工艺之多非常复杂，真空镀膜加工原理有不同可分很多种类，因为真空镀膜加工工作环境要要求高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的真空镀膜加工，影响均匀性的因素也不尽相同。 并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度。Parylene镀膜加工厂家
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