ZrN青黄2400±2001～40.5～0ZrN青黄2400±2001～40.5～0.7650±50CrN银灰2000±2001～100.5～0.7600±50TiAlN褐-黑2700±4001～40.5～0.7800±50DLC黑色1000～80001～4霍尔离子源的特征在哪首先阴极在离子源腔内产生等离子体，然后通过两三层阳极栅将离子从等离子体腔中抽出。该离子源方向
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ZrN青黄2400±2001～40.5～0
ZrN青黄2400±2001～40.5～0.7650±50CrN银灰2000±2001～100.5～0.7600±50TiAlN褐-黑2700±4001～40.5～0.7800±50DLC黑色1000～80001～4<0.2<500活塞环所选用的TiN、CrN（银灰）、ZrN（青黄色）、TiAlN（从褐色到黒色可调）等是使用物理气相堆积(PVD)工艺在合金钢活塞环上构成的数微米厚的硬质薄膜。这种硬质薄膜的性优于一般的镀铬，因而滑动面的滑润性得到坚持，然后也可望取得减摩作用。类金刚石膜（DLC）已在发动机活塞环上作过使用测验，与CrN比较，在保证平等性的同时，有效地降低计算机全程监控的十二弧源离子镀膜机冲突，并将处理费用控制在平等水平，然后进步了生产率。从TiN、CrN之类的PVD硬质薄膜向在机油中有杰出润滑性的、超硬和超低冲突的类金刚石膜过渡，是往后减摩外表处理技术的发展方向。
霍尔离子源的特征在哪
首先阴极在离子源腔内产生等离子体，然后通过两三层阳极栅将离子从等离子体腔中抽出。该离子源方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜。缺点是阴极(通常是钨丝)在反应气体中很快烧坏，离子通量有限，可能会让需要大离子通量的用户不舒服。霍尔离子源是一种阳极，在强轴向磁场的作用下对过程气体进行等离子体处理。这种轴向磁场的强烈不平衡分离了气体离子并形成离子束。由于轴向磁场太强，霍尔离子源的离子束需要补充电子来中和离子电流。常见的中和源是钨丝(阴极)。霍尔离子源的特征在于：
真空镀膜技术一般分为物理液相堆积(PVD)技术和有机化学液相
真空镀膜技术一般分为物理液相堆积(PVD)技术和有机化学液相堆积(有机化学液相堆积)技术两类。物理学液相堆积技术是指在真空泵标准下用各种物理方法将电镀材料挥发成分子、分子结构或弱电解质成正离子，立即堆积在基础表层的方式。硬反映膜主要基于物理学液体的堆积。利用化学物质的热挥发和离子轰击分子在化学物质表层的磁控溅射等物理学全过程，完成化学物质分子从源化学物质到塑料薄膜的控制转移全过程。物理学液相堆积技术具有薄膜/底材结合性好、塑料薄膜均匀高密度均匀、塑料薄膜厚度可控性好、运用目标广、磁控溅射复盖面广、塑料薄膜堆积厚、铝合金塑料薄膜平稳、可重复性好的优点。有机化学液相堆积技术是将塑料薄膜的原素蒸汽和原素的化学物质展示在基础上，根据液相效果和基础表层的化学变化，在基础上制作金属材料和化学物质塑料薄膜的方式。
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