● 金属氯化物生产
在温度为 700 ℃和有 、NiCl 2 存在下 ,可通过碳硅和反应制取四 。也可通过相应的金属氮化物和反应来制取 Mo 、Nb、Ta、Ti 、Zr、Hf 、Cr 、W 等金属的氯化物 。
● 氯烃生产
和烯烃、烷烃化合物可进行加成反应生产氯烃。例如在 35～ 40 ℃下 ,和在液相中反应制取氯 。工业上生产 1 , 1 -和1,1
高纯甲烷
● 金属氯化物生产
在温度为 700 ℃和有 、NiCl 2 存在下 ,可通过碳硅和反应制取四 。也可通过相应的金属氮化物和反应来制取 Mo 、Nb、Ta、Ti 、Zr、Hf 、Cr 、W 等金属的氯化物 。
● 氯烃生产
和烯烃、烷烃化合物可进行加成反应生产氯烃。例如在 35～ 40 ℃下 ,和在液相中反应制取氯 。工业上生产 1 , 1 -和1,1, 1-三氯是用氯和为原料生产的。
● 有机物合成
在有机物合成中, 可直接用作氯化剂, 例如各种氯化物可通过用氯化相应的醇来制取 。
● 其它应用
HCl -H 2 混合气可用于重油脱硫;HCl 的高温离解已应用于化学等离子体反应 ,通过等离子反应, 各种C 1 、C 2 的氯碳物和氯烃可由碳和来合成。
通过改变条件, 可使 1, 1,2 -三氯 、1 ,2 -、三和四成为主要产物 。
特种气体在LED中的应用
特种气体是光电子、微电子等领域，特别是在超大的规模集成电路、液晶显示器件、非晶硅薄膜太阳能电池、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少的基硅性支撑源材料。它的纯度和洁净度直接影响到光电子、微电子元器件的质量、集成度、特定技术指标和成品率，并且从根本上制约着电路和器件的性和准确性。
半导体工业用气体品种多、质量要求高、用量少，大部分是有毒或腐蚀性气体。品种高达百余种。半导体工业特种气体应用分类，主要包括：
1. 硅族气体：含硅基的类，如、二氯二氢硅、乙等。
2. 掺杂气体：含硼、磷、等三族及五族原子之气体，如三氯化硼、三、磷烷、烷等。
3. 蚀刻清洗气体：以含卤化物及卤碳化合物为主，如、三氟化氮、、四氟化碳、六等。
4. 反应气体：以碳系及氮系氧化物为主，如二氧化碳、氨、氧化亚氮等。
5. 金属气相沉积气体：含卤化金属及有机烷类金属，如六氟化钨、基等。
气体混配器工作原理！
气体混配器也称气体配比器、混合柜，该装置是将需要使用的两种或多种气体，按生产工艺要求进行配比，以获取均匀的混合气体。此装置具有配比精度高、流量大、比例稳定等特点，混合精度可达到±1.5%，且输出稳定等特点，可广泛应用于焊接、铸造、化工、船舶、金属表面处理、食品保鲜等行业。
工作原理：
两元或多元需要混合的气体经过单向阀进入两级或多级压力平衡装置，平衡其输入压差，从而保证了混合前组分气体和稀释气体的压力相同，然后调节流量控制阀，可将各流量依据希望达到的混气比例进行调定。原理上采用动态气体混合法，即混即用，从而保证了混配气体的均匀性，复现性优良，比例稳定。可适用于配制焊接混合气、气调保鲜混合气、电光源混合气，检漏（报警）混合气，消菌混合气等。
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